[发明专利]可自行清洁的供液高位槽

说明书

技术领域

本发明涉及一种高位槽，具体涉及一种具有清洗机构的高位槽领域，属于化工设备技术领域，特别提供了一种可自行清洁的供液高位槽。

背景技术

    在实际生产过程中，为了节省成本投入以及减小设备的占用空间，经常会用一个高位槽先后向反应釜中加入几种不同的反应物料，为了避免反应物料的污染，每次在加入反应物料之前都需要对高位槽进行清洗，由于高位槽设置的位置通常较高，若采用人工进行冲刷、擦洗，不仅操作不方便，而且费时费力，甚至不能保证清洗的效果，若清洗不干净，杂质流入反应釜中，最终会对产品的品质产生不良影响。

发明内容

本发明的目的是为了解决现有技术的不足，本发明的目的在于提供一种可自行清洁的供液高位槽。

本发明提供了一种可自行清洁的供液高位槽，其特征在于：所述的可自行清洁的供液高位槽包括主体1、进料口2、出料口3、水泵4、水柱5、喷头6、固定架7、电机8、阀门9、过滤器10；

其中：水泵4与水柱5连接，同时与水柱5连通喷头6，以及连接水柱5、喷头6的固定架7，喷头6设置有 2-6 个，固定架7带动喷头6在竖直方向上升降的同时还在水平方向上转动，上述喷头6呈圆筒形，后段弯曲成 1/4 圆形与水柱5连接，前段沿水平方向延伸并保持喷水口朝水平方向设置。

所述的上述高压喷头6在水平方向上转动的角度为360°。

所述的主体1的底部设置有阀门9。

所述出料口3处连接有过滤器10。

本发明的优点：

本发明所述的可自行清洁的供液高位槽，清洗方便快速，省时省力，经济又环保，保证了清洗效果和工作效率。

附图说明

下面结合附图及实施方式对本发明作进一步详细的说明：

图1为  本发明的原理示意图 。

具体实施方式

实施例1

本实施例提供了一种可自行清洁的供液高位槽，其特征在于：所述的可自行清洁的供液高位槽包括主体1、进料口2、出料口3、水泵4、水柱5、喷头6、固定架7、电机8、阀门9、过滤器10；

其中：水泵4与水柱5连接，同时与水柱5连通喷头6，以及连接水柱5、喷头6的固定架7，喷头6设置有 2个，固定架7带动喷头6在竖直方向上升降的同时还在水平方向上转动，上述喷头6呈圆筒形，后段弯曲成 1/4 圆形与水柱5连接，前段沿水平方向延伸并保持喷水口朝水平方向设置。

所述的上述高压喷头6在水平方向上转动的角度为360°。

所述的主体1的底部设置有阀门9。

所述出料口3处连接有过滤器10。