[发明专利]定影装置和成像设备

权利要求书

1.一种定影装置(20)，包括：

可旋转的定影构件(21)；

加热源(23)，构造为加热定影构件(21)；

相对构件(22)，构造为接触定影构件(21)的外圆周表面以形成辊隙部(N)；以及

屏蔽构件(27)，构造为阻隔来自加热源(23)的热量，其中

屏蔽构件(27)构造为围绕与加热源(23)的中心不同的位置旋转，以便可以在屏蔽位置和回缩位置之间移动，屏蔽位置是屏蔽构件接近加热源(23)以阻隔来自加热源(23)的热量到达定影构件(21)的位置，回缩位置是屏蔽构件(27)回缩到远离屏蔽位置的位置。

2.根据权利要求1所述的定影装置(20)，其中，

定影构件(21)是管状构件，其内部包括加热源(23)和屏蔽构件(27)，

布置屏蔽构件，使得在定影构件圆周方向上的横截面中，屏蔽构件的转动中心设置为接近定影构件的中心，并且

布置加热源，使得在定影构件圆周方向上的横截面中，加热源的中心设置为接近定影构件(21)的内圆周表面而不是屏蔽构件(27)的转动中心。

3.根据权利要求1所述的定影装置(20)，其中，

定影构件(21)是环形定影带(21)；以及

定影装置(20)进一步包括辊隙部形成构件(24)，所述辊隙部形成构件(24)构造为从定影带的内圆周侧与相对构件(22)接触以形成辊隙部(N)。

4.根据权利要求1所述的定影装置(20)，其中，

加热源(23)包括直接加热区域和间接加热区域，在所述直接加热区域中，当面向定影构件(21)时加热源直接地加热定影构件(21)，在所述间接加热区域中，在加热源(23)和定影构件(21)之间设置有除屏蔽构件(27)之外的其它构件，以及

在屏蔽位置，屏蔽构件(27)设置在直接加热区域侧，以及在回缩位置，屏蔽构件(27)设置在间接加热区域侧。

5.根据权利要求1所述的定影装置(20)，其中，

定影构件(21)是环形定影带(21)，

定影装置(20)进一步包括

辊隙部形成构件(24)，构造为从定影带(21)的内圆周侧与相对构件(22)接触以形成辊隙部(N)；以及

支撑构件(25)，构造为支撑辊隙部形成构件(24)，

当屏蔽构件(27)从屏蔽位置旋转和移动到回缩位置时，屏蔽构件(27)的至少一部分移动到支撑构件(25)相对于加热源(23)的相对侧。

6.根据权利要求1所述的定影装置(20)，进一步包括反射构件(26)，所述反射构件(26)构造为将来自加热源(23)的热量反射到定影构件(21)，其中，

当屏蔽构件(27)从屏蔽位置旋转和移动到回缩位置时，屏蔽构件(27)的至少一部分移动到反射构件(26)相对于加热源(23)的相对侧。

7.根据权利要求1所述的定影装置(20)，包括多个加热源(23)，其中

屏蔽构件(27)的转动中心设置在与多个加热源(23)的中心不同的位置。

8.一种成像设备(1)，包括根据权利要求1到7任意一项的定影装置(20)。

9.根据权利要求1所述的定影装置(20)，其中

屏蔽构件(27)构造为根据通过辊隙部(N)的记录介质的宽度尺寸，可以在预先设定的初始位置和不同于初始位置的位置之间移动，以及

定影装置(20)进一步包括初始位置检测单元(54、55)，所述初始位置检测单元(54、55)构造为检测屏蔽构件(27)的初始位置。

10.根据权利要求9所述的定影装置(20)，其中，初始位置检测单元(54、55)包括：构造为与屏蔽构件(27)一起运行的被检测构件(54)；以及构造为检测被检测构件(54)的位置的检测传感器(55)。

11.根据权利要求10所述的定影装置(20)，其中，被检测构件(54)通过联接构件(58)连接到屏蔽构件(27)。