[发明专利]一种可八等分的空心片剂在审
申请号: | 201310578453.8 | 申请日: | 2013-11-14 |
公开(公告)号: | CN104622841A | 公开(公告)日: | 2015-05-20 |
发明(设计)人: | 田东奎;何磊 | 申请(专利权)人: | 天津法莫西医药科技有限公司 |
主分类号: | A61K9/44 | 分类号: | A61K9/44 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 300384 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 等分 空心 片剂 | ||
1.一种片剂,其特征在于片体(1)上下表面为中心开有通孔(1.3),四边上均具有向内凹陷弧线(1.1)的圆角矩形。在片体(1)上表面中设有刻痕线,所述刻痕线分为角刻痕线(1.21)和中心刻痕线(1.22),其中中心刻痕线(1.22)有四条,其伸向孔方向的延长线在交汇于片体(1)上表面中心,角刻痕线(1.21)也有四条,每条均连接相邻的两条向内凹陷弧线(1.1)且四条角刻痕线(1.21)在片体(1)上表面均不相交,中心刻痕线(1.22)远离孔方向延伸至与角刻痕线(1.21)相交为止。
2.如权利要求1所述的片剂,其特征是中心刻痕线(1.22)与角刻痕线(1.21)将片体(1)上表面划分为面积大致相等的八份。
3.如权利要求1所述的片剂,其特征是所述通孔(1.3)优选为圆孔。
4.如权利要求1所述片剂,其特征是所述刻痕线(1.2)的深度为片体(1)厚度的5-30%。
5.如权利要求1-4任一所述的片剂,其特征是优选在片体(1)下表面也设有刻痕线,刻痕线位置为上表面刻痕线在下表面的投影。
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