[发明专利]一种单向药物传递的自支撑聚合物膜的制备方法无效
申请号: | 201310586338.5 | 申请日: | 2013-11-15 |
公开(公告)号: | CN103611194A | 公开(公告)日: | 2014-03-05 |
发明(设计)人: | 韩志超;许杉杉 | 申请(专利权)人: | 无锡中科光远生物材料有限公司 |
主分类号: | A61L27/46 | 分类号: | A61L27/46;A61L27/34;A61L27/32;A61L27/54 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 214192 江苏省无锡市锡山经*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 单向 药物 传递 支撑 聚合物 制备 方法 | ||
技术领域
本发明涉及一种自支撑膜的制备方法,尤其涉及一种用于单向药物传递的具有优良力学强度和灵活性的自支撑膜的制备方法。
背景技术
聚合物膜在生物活性分子(包括小分子药物,蛋白质和核酸)的传输领域有着巨大的应用前景,这种膜常常作为药物涂层沉积在植入物、支架、绷带和缝合处从而以可控或刺激响应的方式释放医疗药物。聚合物膜作为传输系统能够在病理点保持较高的医疗药物浓度,从而增强医疗剂的活性并且降低毒性负面效应;人造自支撑复合膜可以作为生物材料具有在创伤治疗、人造修复和皮肤移植领域应用的前景。但是,真正地应用人造自支撑膜作为生物材料却面临很多挑战,因为自支撑膜的特殊性能还没有开发到能够传输药物的程度。
含有药物的自支撑膜能够附着到组织或器官的病理点进行直接的药物传输。药物分子可以从膜的两侧释放,但有时候仅仅有一半的药物能够到达病理点,而另一半被释放到了周围正常的组织,这就降低了药物的功效并且对正常的组织产生毒性的副作用。
发明内容
本发明制备了一种用于单向药物传递的具有优良力学强度和灵活性的微米厚自支撑药膜,这种药膜能够进行药物的单向传输。本发明涉及的自支撑药膜能够有效增强药物的活性,并且将药物对正常组织的有毒副作用最小化,在诊断领域有非常大的潜在应用性。
具体制备步骤如下:
(1)自支撑薄膜的制备:聚(4-乙烯基吡啶)(P4VP)的乙醇溶液(10~15mg/mL)通过旋涂(旋涂速度:3000~5000tpm;旋涂时间:60~90s)的方法在洗净的硅片上制备一层牺牲层,然后用PLGA的二氯甲烷溶液(20~30mg/mL)通过旋涂(旋涂速度:3000~5000tpm;旋涂时间:60~90s)的方法在P4VP层上制备阻挡层;P4VP和PLGA的复合基底用氧气等离子体(20W)处理8~15min,从而在PLGA层引入带负电荷的含氧基团并且将其层最大厚度从916~931nm减到437~491nm。
(2)层层组装PAH-D/HA膜的制备如下:将带有负电荷表面的基底交替浸泡到含有0.2mol/LNaCl的PAH-D微凝胶(2mg/mL,pH=7.4)和HA(0.5mg/mL,pH=7.4)的水溶液中,每次浸泡10min,每次浸泡完后用去离子水洗涤并用N2干燥,共组装10层;把组装后的膜浸泡到MTX的水溶液(40mg/mL,pH=7.4)中3~5h,从而将MTX负载到PAH-D/HA的层层组装膜中。
(3)覆盖层的制备:将PLGA溶液(20~30mg/mL)通过旋涂(旋涂速度:3000~5000tpm;旋涂时间:60~90s)的方法沉积到MTX-(PAH-D/HA)膜的表面,将大面积的自支撑膜浸泡到乙醇中15~20min以剥离掉P4VP牺牲层得到药物夹层膜。
本发明利用在聚乳酸-乙醇酸嵌段共聚物(PLGA)阻挡层和覆盖层之间夹层含有药物的聚电解质复合层的方法制备了一种用于单向药物传递的具有较好力学强度和灵活性的自支撑聚合物膜。PLGA阻挡层能够有效阻挡MTX的释放,MTX将主要从自支撑膜的PLGA覆盖层释放,这就增强了MTX向癌细胞的释放而同时会使其对正常组织的副作用最小化,药物携带层并不只局限于层层组装的PAH-D/HA膜,而是能够延伸到其它的生物相容性膜;阻挡层和覆盖层也可以是其它的生物相容性材料;层层组装膜作为药物的载体具有多功能性,从而能够实现多种药物的承载和单向传输。
具体实施方式
为了加深对本发明的理解,下面结合具体实例对本发明做进一步的详述。
(1)自支撑薄膜的制备:聚(4-乙烯基吡啶)(P4VP)的乙醇溶液(12mg/mL)通过旋涂(旋涂速度:3000tpm;旋涂时间:60s)的方法在洗净的硅片上制备一层牺牲层,然后用PLGA的二氯甲烷溶液(20mg/mL)通过旋涂(旋涂速度:3000tpm;旋涂时间:60s)的方法在P4VP层上制备阻挡层,P4VP和PLGA的复合基底用氧气等离子体(20W)处理10min,从而在PLGA层引入带负电荷的含氧基团并且将其层最大厚度从920nm减到435nm。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于无锡中科光远生物材料有限公司,未经无锡中科光远生物材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310586338.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:通过气相氢解环缩醛和环缩酮制备羟基醚烃
- 下一篇:处理芒果的方法