[发明专利]一种印染工艺

权利要求书

1.一种印染工艺，其特征在于，包括以下步骤：

1）前处理；

2）染色：将经过前处理的织物置于染液中，先将染液开始以1～2℃/min的速率升温至45℃～55℃，保温20～40min；然后加入氯化钠以1～2℃/min的速率升温至60℃～70℃，保温20～40min；再加入纯碱以0.2～1℃/min的速率升温至80℃～90℃，保持20～40min；最后以1～2℃/min的速率降温，染色过程完成；

3）后处理。

2.根据权利要求1所述的印染工艺，其特征在于，所述的织物为棉织物。

3.根据权利要求1所述的印染工艺，其特征在于，步骤2）中，所述的染色采用气流雾化染色机。

4.根据权利要求1所述的印染工艺，其特征在于，步骤2）中，所述的浴比为3～5：1。

5.根据权利要求1所述的印染工艺，其特征在于，步骤3）中，所述的后处理包括：先在60℃～80℃预烘焙1～5min，然后升温至130℃～150℃烘焙3～8min，然后在80℃～100℃皂洗20～40min，最后烘干，得到印染制品。

6.根据权利要求5所述的印染工艺，其特征在于，步骤3）中，在进行预烘焙之前，将染色完成的织物浸入到硅烷偶联剂改性的纳米二氧化硅加深剂中浸轧。

7.根据权利要求6所述的印染工艺，其特征在于，所述的硅烷偶联剂改性的纳米二氧化硅加深剂的制备方法，包括以下步骤：

先将平均粒径为10～40nm纳米二氧化硅溶于乙醇，得到纳米二氧化硅的重量百分含量为1%～4%的纳米二氧化硅乙醇分散液，再向纳米二氧化硅乙醇分散液中加入乙烯基三乙氧硅烷，加入的乙烯基三乙氧硅烷与纳米二氧化硅乙醇分散液中纳米二氧化硅的质量比为5～15：100，在15～35℃反应18h～30h，得到硅烷偶联剂改性纳米二氧化硅溶液；将硅烷偶联剂改性纳米二氧化硅溶液与水以质量比1：30～50混合，得到硅烷偶联剂改性的纳米二氧化硅加深剂。

8.根据权利要求5所述的印染工艺，其特征在于，在进行预烘焙之前，在交联剂水溶液中浸轧，该交联剂水溶液中含有交联剂50～150g/L和柔软剂30～80g/L。