[发明专利]一种螺旋光纤光栅的刻写装置

权利要求书

1.一种螺旋光纤光栅的刻写装置，其特征在于：其结构由紫外光源（101）、准直聚焦透镜（102）、掩模板（103）、旋转电机（105）和前进电机（106）组成，紫外光源（101）产生的紫外光，经过准直聚焦透镜（102）后照射到掩模板（103）上，当采用相位掩模板刻写短周期布拉格螺旋光栅时，透射光通过相位掩模板后能够产生±1级衍射，衍射光形成的干涉光对被刻写的光纤（104）进行曝光；当采用振幅型掩模板刻写长周期螺旋光栅时，掩模板上透光部分直接在光纤（104）上进行曝光；刻写采用的是单面曝光技术，刻写具有一定的深度（107），刻写的过程中旋转电机（105）带动光纤旋转，旋转电机（105）能够向两个方向旋转，前进电机（106）带动光纤向前移动，调节两个电机的周期，使光纤在前进一个刻写周期Λ的同时，光纤旋转一周，这样就能够将光纤刻写成具有一定深度的螺旋型，用v表示前进电机带动光纤前进的速率，ω表示旋转电机旋转带动光纤旋转的角速度大小，∧表示所要刻写的光栅的周期，它们之间的关系是：

2.根据权利要求1所述的一种螺旋光纤光栅的刻写装置，其特征在于：所述的紫外光源（101）为氩离子激光器或准分子激光器。

3.根据权利要求1所述的一种螺旋光纤光栅的刻写装置，其特征在于：掩模板是刻写布拉格光纤光栅的相位掩模板，或者是刻写长周期的振幅型掩模板。

4.根据权利要求1所述的一种螺旋光纤光栅的刻写装置，其特征在于：前进电机带动被刻写的光纤沿轴向向前移动，旋转电机能够带动被刻写的光纤绕轴向旋转。