[发明专利]卤素吸附剂、水处理用罐及水处理系统

权利要求书

1.卤素吸附剂，其特征在于，

具有载体、与所述载体键合的螯合配位体、以及配位于所述螯合配位体的金属离子，

所述螯合配位体具有-NR¹-(CH₂CH₂NR³)_n-R²所示的官能团，

所述R¹、R²和R³均为氢原子，且所述n为1或2，或

所述R¹、R²和R³中至少任一个为-CH₂CH₂CONR⁴R⁵所示的官能团，所述R⁴、R⁵为氢原子或具有碳数1～6的直链或侧链的烷基或烷基醚基，且所述n为0、1和2中的任一个。

2.如权利要求1所述的卤素吸附剂，其特征在于，所述金属离子为铜离子。

3.如权利要求1或2所述的卤素吸附剂，其特征在于，通过至少具有所述载体和硅烷偶联剂反应的工序的方法来制造。

4.水处理用罐，其特征在于，收容了卤素吸附剂，该卤素吸附剂的特征在于，

具有载体、与所述载体键合的螯合配位体、以及配位于所述螯合配位体的金属离子，

所述螯合配位体具有-NR¹-(CH₂CH₂NR³)_n-R²所示的官能团，

所述R¹、R²和R³均为氢原子，且所述n为1或2，或

所述R¹、R²和R³中至少任一个为-CH₂CH₂CONR⁴R⁵所示的官能团，所述R⁴、R⁵为氢原子或具有碳数1～6的直链或侧链的烷基或烷基醚基，且所述n为0、1和2中的任一个。

5.如权利要求4所述的水处理用罐，其特征在于，所述金属离子为铜离子。

6.如权利要求4或5所述的水处理用罐，其特征在于，通过至少具有所述载体和硅烷偶联剂反应的工序的方法来制造。

7.水处理系统，其特征在于，具有：

具备卤素吸附剂的吸附装置；

向所述吸附装置供给含有卤化物的被处理介质的供给装置；

从所述吸附装置排出被处理介质的排出装置；

设置在所述吸附装置的供给侧或排出侧、或所述吸附装置的至少一个的用于测定被处理介质中的卤化物含量的测定装置；以及

基于从所述测定装置的信息求得的值达到预先设定的值时用于减少从所述供给装置向所述吸附装置的被处理介质的供给量的控制装置；

所述卤素吸附剂具有载体、与所述载体键合的螯合配位体、以及配位于所述螯合配位体的金属离子，

所述螯合配位体具有-NR¹-(CH₂CH₂NR³)_n-R²所示的官能团，

所述R¹、R²和R³均为氢原子，且所述n为1或2，或

所述R¹、R²和R³中至少任一个为-CH₂CH₂CONR⁴R⁵所示的官能团，所述R⁴、R⁵为氢原子或具有碳数1～6的直链或侧链的烷基或烷基醚基，且所述n为0、1和2中的任一个。

8.如权利要求7所述的水处理系统，其特征在于，具有控制部，所述控制部是从通过测定装置测定的卤素吸附剂的颜色算出向卤素吸附剂的卤素的吸附量。

9.如权利要求7所述的水处理系统，其特征在于，所述测定装置为窗、UV-Vis光谱测定装置、反射光谱的测定装置、摄像装置中的至少任一装置。

10.如权利要求7～9中任一项所述的水处理系统，其特征在于，通过所述测定装置随着时间监测卤素吸附剂的卤素的吸附量。