[发明专利]一种彩膜基板、其制作方法、内嵌式触摸屏及显示装置

权利要求书

1.一种彩膜基板，包括衬底基板，位于所述衬底基板上的黑矩阵，位于所述黑矩阵上的触控电极层，以及位于所述触控电极层上的彩色树脂层，其特征在于，还包括：

位于所述黑矩阵与所述触控电极层之间的第一正性光刻胶层；和/或，位于所述触控电极层与所述彩色树脂层之间的第二正性光刻胶层。

2.如权利要求1所述的彩膜基板，其特征在于，所述触控电极层具有的图案在所述衬底基板上的正投影在所述黑矩阵的图案所在区域内。

3.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第一正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案；或，

所述第一正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案。

4.如权利要求2所述的彩膜基板，其特征在于，所述第二正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案；或，

所述第二正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案。

5.一种内嵌式触摸屏，其特征在于，包括如权利要求1-4任一项所述的彩膜基板。

6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求5所述的内嵌式触摸屏。

7.一种如权利要求1-4任一项所述的彩膜基板的制作方法，包括：在衬底基板上形成包括黑矩阵的图案，在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成包括触控电极层的图案，在形成有所述触控电极层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案，其特征在于，还包括：

在形成所述黑矩阵的图案之后且在形成所述触控电极层的图案之前，形成第一正性光刻胶层；和/或，

在形成所述触控电极层的图案之后且在形成所述彩色树脂层的图案之前，形成第二正性光刻胶层。

8.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述在衬底基板上形成包括黑矩阵的图案，具体包括：

利用负性光刻胶采用构图工艺形成包括黑矩阵的图案；

所述在形成有所述黑矩阵的衬底基板上形成包括触控电极层的图案，具体包括：

利用正性光刻胶采用构图工艺形成包括触控电极层的图案；

所述在形成有所述触控电极层的衬底基板上形成包括彩色树脂层的图案，具体包括：

利用负性光刻胶采用构图工艺形成包括彩色树脂层的图案。

9.如权利要求7所述的制作方法，其特征在于，所述触控电极层具有的图案在所述衬底基板上的正投影在所述黑矩阵的图案所在区域内。

10.如权利要求9所述的制作方法，其特征在于，所述第一正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案，或所述第一正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案；

所述第二正性光刻胶层具有与所述黑矩阵的图案相同的图案，或所述第二正性光刻胶层具有与所述触控电极层的图案相同的图案。