[发明专利]一种光学防伪元件及使用该光学防伪元件的光学防伪产品

权利要求书

1.一种光学防伪元件，该光学防伪元件包括：

基材；

形成于所述基材的同一表面上的第一表面浮雕结构层和第二表面浮雕结构层，其中所述第一表面浮雕结构层的表面积与表观面积的比值小于所述第二表面浮雕结构层的表面积与表观面积的比值；以及

形成于所述第一表面浮雕结构层上的第一干涉型多层镀层和/或形成于所述第二表面浮雕结构层上的第二干涉型多层镀层；

所述第一表面浮雕结构层和/或第二表面浮雕结构层是非衍射表面浮雕结构或衍射表面浮雕结构。

2.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述第一表面浮雕结构层和所述第二表面浮雕结构层为连续曲面型结构、矩形结构、锯齿型棱镜结构和/或它们的拼接或组合。

3.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，在平行于所述基材的所述表面的一个方向上，所述第一表面浮雕结构层和所述第二表面浮雕结构层的特征尺寸位于使得所述第一表面浮雕结构层和所述第二表面浮雕结构层各自能够呈现非衍射特征的第一范围内或者位于使得所述第一表面浮雕结构层和所述第二表面浮雕结构层各自能够呈现衍射特征的第二范围内或者所述第一表面浮雕结构层和所述第二表面浮雕结构层中的其中之一的特征尺寸位于所述第一范围内而另一个的特征尺寸位于所述第二范围内，而且当所述一个方向上的特征尺寸满足要求时，与所述一个方向垂直的另一个方向上的特征尺寸不受限制。

4.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其中，所述第一范围为2μm-200μm。

5.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其中，所述第一范围为5μm-100μm。

6.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其中，所述第二范围为所述特征尺寸小于2μm。

7.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其中，所述第二范围为0.2μm-1μm。

8.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其中，当所述第一表面浮雕结构层、所述第二表面浮雕结构层呈现非衍射特征时，所述第一表面浮雕结构层、所述第二表面浮雕结构层在垂直于所述基材的所述表面的方向上的起伏高度小于25μm。

9.根据权利要求8所述的光学防伪元件，其中，所述起伏高度小于15μm。

10.根据权利要求3所述的光学防伪元件，其中，当所述第一表面浮雕结构层、所述第二表面浮雕结构层呈现衍射特征时，所述第一表面浮雕结构层、所述第二表面浮雕结构层在垂直于所述基材的所述表面的方向上的起伏高度小于2μm。

11.根据权利要求10所述的光学防伪元件，其中，所述起伏高度位于50nm-500nm的范围内。

12.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述第一干涉型多层镀层和所述第二干涉型多层镀层分别与所述第一表面浮雕结构层和所述第二表面浮雕结构层同形覆盖。

13.根据权利要求1所述的光学防伪元件，其中，所述第一干涉型多层镀层和所述第二干涉型多层镀层各自能够包括下述各项中的任意一种或其组合：由吸收层、低折射率介质层和反射层依次堆叠形成的干涉型多层镀层，其中该反射层或吸收层与相应的表面浮雕结构层相接触；由高折射率介质层、低折射率介质层和高折射率介质层依次堆叠形成的干涉型多层镀层；以及由吸收层、高折射率介质层和反射层依次堆叠形成的干涉型多层镀层，其中，该反射层或吸收层与相应的表面浮雕结构层相接触。

14.根据权利要求1-13中任一项权利要求所述的光学防伪元件，其中，其中所述光学防伪元件还包括形成于所述基材的所述表面上、所述第一表面浮雕结构层的表面上和/或所述第二表面浮雕结构层的表面上的衍射光变特征、微纳结构特征、印刷特征、部分金属化特征以及用于机读的磁、光、电、放射性特征中的一种或多种特征。

15.一种采用根据权利要求1-14中任一项权利要求所述的光学防伪元件的光学防伪产品。