[发明专利]一种彩釉瓷画的制备工艺

权利要求书

1.一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：在陶瓷基板上喷涂一层透明釉并烘干后，直接在透明釉上用粉碎至纳米级的颜料喷绘图案，之后在图案上方再喷涂一层透明釉，最后再放入窑中烧制使得颜料渗透到透明釉中，之后冷却即得成品。

2.如权利要求1所述的一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：所述的陶瓷基板上设有一层由锆白釉形成的白釉层，在陶瓷基板喷涂透明釉之前，先对白釉层表面进行打毛处理。

3.如权利要求1所述的一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：所述陶瓷基板上的透明釉的厚度均为2-5mm，烘干温度为60℃-80℃。

4.如权利要求1所述的一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：所述陶瓷基板的背面还设有一层柔性缓冲层，柔性缓冲层的形状和大小与陶瓷基板一致。

5.如权利要求4所述的一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：在烧制完成后，在制成的彩釉瓷画的四周设置框架，将柔性缓冲层和陶瓷基板的四周边缘均卡设在框架内。

6.如权利要求1所述的一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：以根据颜料在烧制过程中的窑变特性反向调整处理过的图像为模板，用纳米级颜料在透明釉上喷绘图像。

7.如权利要求1所述的一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：烧制温度为1100℃—1200℃，烧制时间为40min-70min，绕制完成后通过水冷使其温度降至550℃-650℃，之后经自然冷却后出窑即可。

8.如权利要求1所述的一种彩釉瓷画的制备工艺，其特征在于：在透明釉上喷绘图像时，将图像中的红色部分空出来，待烧制完成后，在预留的空白区域涂绘所需红色。

9.一种根据权利要求1制备的彩釉瓷画，其特征在于：所述彩釉瓷画设有一基板，在基板上设有透明釉层，由颜料组成的釉画层渗透到透明釉层内，由透明釉形成的保护釉层覆盖在透明釉层上。

10.如权利要求9所述的彩釉瓷画，其特征在于：在基板的背面还设有柔性缓冲层，彩釉瓷画外围设有框架。