[发明专利]放射源定位方法、装置及系统有效

专利信息
申请号: 201310602906.6 申请日: 2013-11-25
公开(公告)号: CN103645491A 公开(公告)日: 2014-03-19
发明(设计)人: 魏龙;张译文;李道武;章志明;王宝义;帅磊;王英杰;朱美玲;孙世峰;张玉包;唐浩辉;黄先超;柴培;李婷;庄凯;姜小盼;刘彦韬;周魏;曾凡剑 申请(专利权)人: 中国科学院高能物理研究所
主分类号: G01T1/00 分类号: G01T1/00;G01T1/18
代理公司: 北京志霖恒远知识产权代理事务所(普通合伙) 11435 代理人: 孟阿妮
地址: 100049 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 放射源 定位 方法 装置 系统
【说明书】:

技术领域

发明涉及放射源探测技术,特别涉及一种放射源定位方法、装置及系统。

背景技术

放射源探测可广泛应用于各种放射性环境,如实验室、核电厂、核燃料厂、大型重离子加速器、放射源库等。用于探测伽马射线的探测器多种多样,目前较先进的技术是利用伽马射线中的粒子能够被碘化铯(CsI)或锗酸铋(BGO)等晶体吸收的原理,采用四块晶体组成2×2晶体阵列,对同一放射源进行探测并计数,根据各块晶体的计数值来反推出放射源的角度,以确定放射源的方位。

但是,当放射源的位置与晶体阵列不在同一平面上时,计算出的放射源角度不够准确,使得定位准确度低;同时,由于晶体计数值随角度的变化不明显,使得现有的放射源定位方法灵敏度不高,分辨能力偏低。

发明内容

在下文中给出关于本发明的简要概述,以便提供关于本发明的某些方面的基本理解。应当理解,这个概述并不是关于本发明的穷举性概述。它并不是意图确定本发明的关键或重要部分,也不是意图限定本发明的范围。其目的仅仅是以简化的形式给出某些概念,以此作为稍后论述的更详细描述的前序。

本发明提供一种放射源定位方法、装置及系统,用以解决现有技术中放射源定位准确度低及灵敏度低的缺陷,实现高灵敏度、高准确度的放射源定位。

本发明提供了一种放射源定位方法,包括:

步骤S1、根据理拟数据获取探测器的晶体阵列中晶体计数比与放射源角度的关系;

步骤S2、测量待测放射源放射射线时所述晶体阵列的实测晶体计数;

步骤S3、在计数噪声的变化范围内,根据所述实测晶体计数以及各所述计数噪声获取多个去噪晶体计数比,根据所述晶体计数比与放射源角度的关系获取与各所述去噪晶体计数比相对应的各实测放射源角度,并选取所述计数噪声最优时的实测放射源角度为所述待测放射源的放射源角度。

本发明还提供了一种放射源定位装置,包括:

处理模块,用于根据模拟数据获取探测器的晶体阵列中晶体计数比与放射源角度的关系;

测量模块,用于测量待测放射源放射射线时所述晶体阵列的实测晶体计数;

计算模块,用于在计数噪声的变化范围内,根据各所述计数噪声以及所述测量模块测量得到的所述实测晶体计数获取多个去噪晶体计数比,根据所述处理模块获取的所述晶体计数比与放射源角度的关系获取与各所述去噪晶体计数比相对应的各实测放射源角度,并选取所述计数噪声最优时的实测放射源角度为所述待测放射源的放射源角度。

本发明还提供了一种放射源定位系统,包括:上述放射源定位装置、待测放射源和探测器。

本发明提供的放射源定位方法、装置及系统,采用晶体计数比作为计算参数,使参数随放射源角度的变化明显,采用有效的扣除噪声技术,对于放射源不在晶体阵列平面上的情况,能够有效提高参数中与放射源角度有关的变化因子,避免了现有技术的缺陷,提高了放射源定位的灵敏度和准确度。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明放射源定位方法第一实施例的流程图;

图2为本发明放射源定位方法第二实施例的流程图;

图3为本发明实施例采用的2×2晶体阵列的示意图;

图4为本发明实施例放射源角度与晶体计数比的关系图;

图5为本发明放射源定位装置第一实施例的结构示意图;

图6为本发明放射源定位装置第二实施例的结构示意图;

图7为本发明放射源定位系统实施例的系统框图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。在本发明的一个附图或一种实施方式中描述的元素和特征可以与一个或更多个其它附图或实施方式中示出的元素和特征相结合。应当注意,为了清楚的目的,附图和说明中省略了与本发明无关的、本领域普通技术人员已知的部件和处理的表示和描述。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有付出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。

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