[发明专利]一种镁合金表面陶瓷膜层的制备方法及封孔方法在审

专利信息
申请号: 201310606075.X 申请日: 2013-11-25
公开(公告)号: CN104651908A 公开(公告)日: 2015-05-27
发明(设计)人: 鲁闯;朱利萍;杨润田;王志锋;唐纬虹;贺勇 申请(专利权)人: 中国兵器科学研究院宁波分院
主分类号: C25D11/30 分类号: C25D11/30
代理公司: 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 代理人: 袁忠卫
地址: 315103 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 镁合金 表面 陶瓷膜 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种镁合金表面陶瓷膜层的制备方法,其特征在于包括以下步骤:

1)按以下组成配置电解液:

2)将镁合金工件置入氧化槽中作为阳极,不锈钢板作为阴极,采用直流或脉冲电流进行抑弧氧化,电流密度为0.5~4A/dm2,氧化电压250~450V,采用压缩空气搅拌,氧化温度10~25℃,氧化时间2~60分钟;

3)取出工件,用清水漂洗,再用压缩空气吹干表面水分,即在镁合金表面氧化生成了陶瓷膜层。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述稳定剂为三乙醇胺、甘油或乌洛托品中的一种或几种。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述镁合金工件在氧化前根据需要进行脱脂、酸洗或喷砂处理,其中脱脂采用碱性脱脂剂,酸洗采用质量浓度5~10%HNO3溶液或30~40g/lH3PO4溶液,常温浸泡30~60秒;喷砂是使用玻璃砂或陶瓷砂,粒径100~220目,喷砂压力0.3~0.6MPa。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于:所述步骤3)中的氧化采用脉冲电流时,频率50~2000Hz,占空比10%~80%。

5.一种根据权利要求1制备的镁合金表面陶瓷膜层的封孔方法,其特征在于:容器中添加足量的封孔液至浸没工件,将上述氧化好的镁合金工件悬置于该盛有封孔液的容器中,不要浸入浸渗液中,对容器密封抽真空,然后将工件浸没于浸渗液中,继续抽真空,使容器内达到或接近绝对真空;也可以将氧化好的工件直接浸没于浸渗液中,抽真空,使容器内达到或接近绝对真空;保持4~6分钟后打开放气阀,使容器内恢复正常气压,再保持4~6分钟后打开容器,取出工件甩干后在烘箱中固化,固化后取出冷却即可。

6.根据权利要求5所述的封孔方法,其特征在于:所述封孔液为纳米SiO2分散液,纳米SiO2的粒径为10~100nm,分散剂为异丙醇或聚乙二醇,其中纳米SiO2的质量百分比为10%~40%。

7.根据权利要求5所述的封孔方法,其特征在于:所述固化的温度为90~180℃,固化时间10~40分钟。

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