[发明专利]有机发光显示设备和制造它的方法有效
申请号: | 201310606600.8 | 申请日: | 2013-11-25 |
公开(公告)号: | CN104103665B | 公开(公告)日: | 2019-07-30 |
发明(设计)人: | 吴敏镐;赵尹衡;金容铎;李昭玲;金钟祐;文智永 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/00;H01L51/56 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;王珍仙 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 有机 发光 显示 设备 制造 方法 | ||
1.一种有机发光显示设备,包括:
基板;
配置在所述基板上的显示单元;
配置在所述显示单元的周围并在所述基板上的阻塞单元;
覆盖所述显示单元和所述阻塞单元的下无机膜,和
封装所述显示单元的封装层,其中,所述封装层包括覆盖部分所述下无机膜的有机膜和覆盖所述有机膜和所述阻塞单元的无机膜,并且其中,所述阻塞单元的硬度低于所述无机膜的硬度,且所述阻塞单元具有弹性。
2.根据权利要求1所述的有机发光显示设备,其中,所述有机膜与所述阻塞单元隔开。
3.根据权利要求1所述的有机发光显示设备,其中,所述阻塞单元包括选自由硅、环氧树脂和亚克力组成的组中的材料。
4.根据权利要求1所述的有机发光显示设备,其中,所述阻塞单元包括多个彼此隔开并且彼此平行的坝。
5.根据权利要求1所述的有机发光显示设备,其中,所述有机膜包括选自由聚脲和聚丙烯酸酯组成的组中的材料。
6.根据权利要求1所述的有机发光显示设备,其中,所述无机膜包括选自由SiNx、Al2O3、SiO2和TiO2组成的组中的材料。
7.根据权利要求1所述的有机发光显示设备,所述显示单元包括易受湿气和氧影响的有机发光层。
8.根据权利要求4所述的有机发光显示设备,其中,所述多个坝为增加湿气从外部到达所述显示单元的横向路径的长度的同心矩形。
9.一种制造有机发光显示设备的方法,包括:
在基板上形成阻塞单元;
在所述阻塞单元内侧并在所述基板上形成显示单元;和
在所述显示单元上形成封装层以封装所述显示单元,其中,形成所述封装层包括:
结合掩膜和所述基板,所述掩膜具有其中插入有所述阻塞单元的槽;
通过使用所述掩膜形成有机膜以覆盖所述显示单元;
分离所述掩膜;和
形成无机膜以覆盖所述有机膜和所述阻塞单元,
其中所述方法进一步包括形成下无机膜以覆盖所述显示单元和所述阻塞单元,其中所述有机膜形成为覆盖部分所述下无机膜,并且其中,所述阻塞单元的硬度低于所述无机膜的硬度,且所述阻塞单元具有弹性。
10.根据权利要求9所述的方法,其中,所述槽的深度等于或小于所述阻塞单元的高度,并且所述槽的宽度等于或大于所述阻塞单元的宽度。
11.根据权利要求9所述的方法,其中,所述阻塞单元包括选自由硅、环氧树脂和亚克力组成的组中的材料。
12.根据权利要求9所述的方法,其中,通过选自由喷墨印刷技术和丝网印刷技术组成的组中的技术制造所述阻塞单元。
13.根据权利要求10所述的方法,其中,所述槽具有锥形形状。
14.根据权利要求13所述的方法,其中,当所述阻塞单元与所述槽结合时,所述阻塞单元的形状根据所述槽的形状弹性地改变。
15.根据权利要求9所述的方法,其中,所述有机膜与所述阻塞单元隔开。
16.根据权利要求9所述的方法,其中,所述掩膜与所述基板的结合包括将被所述下无机膜覆盖的所述阻塞单元插入所述掩膜的所述槽中。
17.根据权利要求9所述的方法,其中,所述有机膜包括选自由聚脲和聚丙烯酸酯组成的组中的材料,通过蒸发非定向的液化单体而制造所述有机膜。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的