[发明专利]流体液滴喷射装置

说明书

本申请是申请号为200980117680.2的中国发明专利申请(申请日：2009年5月21日；发明创造名称：流体液滴喷射装置)的分案申请。

技术领域

本发明涉及流体喷射装置。

背景技术

在一些流体喷射装置中，流体液滴从一个或多个喷嘴喷射到介质上。喷嘴以使流体流动的方式连接到包括流体抽吸室的流体通路。流体抽吸室可以由致动器致动，从而喷射流体液滴。所述介质可以相对于流体喷射装置移动。流体液滴从特定喷嘴的喷射在时间上由介质的运动来决定，以便将流体液滴放在介质上的所需位置处。在这些流体喷射装置中，通常理想的是喷射同样尺寸和速度的流体液滴以及在相同的方向上喷射流体液滴，以便提供流体液滴在介质上的均匀沉积。

发明内容

在一个方面，在此所述的系统、装置和方法包括用于喷射流体液滴且包括基板的系统。所述基板可以包括流路体，所述流路体具有形成于所述流路体中的流路。所述流路可以包括流体抽吸室、以使流体流动的方式连接到所述流体抽吸室的下降装置(descender)以及以使流体流动的方式连接到所述下降装置的喷嘴。所述喷嘴可以设置用于通过形成于喷嘴层外表面中的出口喷射流体液滴。再循环通道可以以使流体流动的方式连接到所述下降装置，并且与所述抽吸室相比可以更靠近所述喷嘴。流体供应容器可以以使流体流动的方式连接到所述流体抽吸室。流体返回容器可以以使流体流动的方式连接到所述再循环通道。泵可以被构造成以使流体流动的方式连接所述流体返回容器和所述流体供应容器。

在另一个方面，一种用于喷射流体液滴的装置可以包括基板，所述基板具有形成于所述基板中的流体抽吸室。下降装置可以形成于所述基板中并以使流体流动的方式连接到所述流体抽吸室。致动器可以与所述流体抽吸室形成压力连通。喷嘴可以形成于所述基板中，并且可以以使流体流动的方式连接到所述下降装置。所述喷嘴可以具有用于喷射流体液滴的出口，并且所述出口可以形成于基板外表面中。再循环通道可以形成于所述基板中，并且在使得所述基板外表面与所述再循环通道的最靠近表面之间的距离小于或大约为所述出口的宽度的10倍的位置处以使流体流动的方式连接到所述下降装置，，并且所述再循环通道没有以使流体流动的方式连接到不同的流体抽吸室。

在另外一个方面，一种用于喷射流体液滴的装置可以包括：基板，所述基板具有形成于所述基板中的流体抽吸室；下降装置，所述下降装置形成于所述基板中，并且以使流体流动的方式连接到所述流体抽吸室；以及致动器，所述致动器与所述流体抽吸室形成压力连通。喷嘴可以形成于所述基板中并以使流体流动的方式连接到所述下降装置。所述喷嘴可以具有用于喷射流体液滴的出口，并且所述出口可以形成于基板外表面中。再循环通道可以形成于所述基板中，并且以使流体流动的方式连接到所述下降装置，而所述再循环通道没有以使流体流动的方式连接到不同的流体抽吸室。所述喷嘴可以具有与所述出口相对的喷嘴开口以及位于所述喷嘴开口与所述出口之间的锥形部。所述再循环通道的靠近所述喷嘴的表面与所述喷嘴开口大体齐平。

在另一个方面，一种用于喷射流体液滴的装置可以包括：基板，所述基板具有形成于所述基板中的流体抽吸室；下降装置，所述下降装置形成于所述基板中，并且以使流体流动的方式连接到所述流体抽吸室；以及喷嘴，所述喷嘴形成于所述基板中并以使流体流动的方式连接到所述下降装置，所述喷嘴具有用于喷射流体液滴的出口，所述出口与基板外表面共面。也可以关于每个下降装置对称布置两个再循环通道，并且所述两个再循环通道以使流体流动的方式连接到每个下降装置。

在另外一个方面，一种用于喷射流体液滴的装置可以包括：基板，所述基板具有形成于所述基板中的流体抽吸室；下降装置，所述下降装置形成于所述基板中，并且以使流体流动的方式连接到所述流体抽吸室；以及喷嘴，所述喷嘴形成于所述基板中并以使流体流动的方式连接到所述下降装置。致动器可以与所述流体抽吸室形成压力连通，并且可以能够产生用于使流体液滴从所述喷嘴喷出的发射脉冲，所述发射脉冲具有发射脉冲频率。再循环通道可以形成于所述基板中，并且被构造成在所述发射脉冲频率下具有大体高于所述喷嘴的阻抗的阻抗。