[发明专利]工程塑料表面处理的蚀刻处理工艺在审

专利信息
申请号: 201310610421.1 申请日: 2013-11-27
公开(公告)号: CN103741184A 公开(公告)日: 2014-04-23
发明(设计)人: 赵洪明 申请(专利权)人: 苏州市丰盛塑业有限公司
主分类号: C25D5/56 分类号: C25D5/56;C09K13/00
代理公司: 北京瑞思知识产权代理事务所(普通合伙) 11341 代理人: 李涛
地址: 215011 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 工程塑料 表面 处理 蚀刻 工艺
【说明书】:

技术领域

本发明涉及塑料加工技术领域,特别是涉及一种工程塑料表面处理的蚀刻处理工艺。

背景技术

目前,最常用的塑料表面处理方法是塑料表面的金属化,这种方法可以赋予塑料更多特定的性能。而塑料电镀技术在近30年已发展成为一种有价值的技术,由于镀层与基体的结合力好,抗蚀性能比以钢铁为基体的镀层强,并且耐热、耐磨性能也能得到提高,因此,应用越来越广。

在现有技术中,塑料表面采用的蚀刻处理非常强烈,是在较长时间、较高的温度下进行的,会使塑料表面产生微洞穴,处理过程较漫长,能耗高,而且使用这种方法的塑料镀层结合力差,易于脱落。

发明内容

本发明主要解决的技术问题是提供一种工程塑料表面处理的蚀刻处理工艺,增大了工程塑料表面镀层的接触面和亲水性,从而有利于提高蚀刻表面的均匀性和表面镀层的结合力,并提高工程塑料的表面光洁度、耐磨性及强度,且处理工艺简单、方便。

为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供一种工程塑料表面处理的蚀刻处理工艺,包括如下步骤:将经过前处理的工程塑料浸入蚀刻溶液中进行蚀刻处理,其中,所述蚀刻溶液是在水中加入按质量份比组成的以下组分:0.9-1份高锰酸铵、0.75-0.85份草酸、0.85-0.95份硫酸铵、0.35-0.45份甘油和1.45-1.55份硫酸钡配制而成。

在本发明一个较佳实施例中,所述水的温度为45-55℃。

在本发明一个较佳实施例中,所述高锰酸铵的加入量为1份,所述草酸的加入量为0.8份,所述硫酸铵的加入量为0.9份,所述甘油的加入量为0.4份,所述硫酸钡的加入量为1.5份。

在本发明一个较佳实施例中,所述蚀刻溶液的体积为250-300mL。

本发明的有益效果是:通过采用合理配比的蚀刻溶液,严格控制水温和蚀刻处理的时间,增大了工程塑料表面镀层的接触面和亲水性,从而有利于提高蚀刻表面的均匀性和表面镀层的结合力,并提高工程塑料的表面光洁度、耐磨性及强度,且处理工艺简单、方便。

具体实施方式

下面对本发明的较佳实施例进行详细阐述,以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。

一种工程塑料表面处理的蚀刻处理工艺,包括如下步骤:将经过前处理的工程塑料浸入蚀刻溶液中进行蚀刻处理,其中,所述蚀刻溶液是在水中加入按质量份比组成的以下组分:0.9-1份高锰酸铵、0.75-0.85份草酸、0.85-0.95份硫酸铵、0.35-0.45份甘油和1.45-1.55份硫酸钡配制而成。

所述水的温度为45-55℃。

所述蚀刻溶液的体积为250-300mL。

实施例一

一种工程塑料表面处理的蚀刻处理工艺,包括如下步骤:将经过前处理的工程塑料浸入蚀刻溶液中进行蚀刻处理,其中,所述蚀刻溶液是在50℃的水中加入按质量份比组成的以下组分:1份高锰酸铵、0.8份草酸、0.9份硫酸铵、0.4份甘油和1.5份硫酸钡配制而成。

且所述蚀刻溶液的体积为300mL。

实施例二

一种工程塑料表面处理的蚀刻处理工艺,包括如下步骤:将经过前处理的工程塑料浸入蚀刻溶液中进行蚀刻处理,其中,所述蚀刻溶液是在50℃的水中加入按质量份比组成的以下组分:0.9份高锰酸铵、0.75份草酸、0.85份硫酸铵、0.35份甘油和1.45份硫酸钡配制而成。

且所述蚀刻溶液的体积为250mL。

实施例三

一种工程塑料表面处理的蚀刻处理工艺,包括如下步骤:将经过前处理的工程塑料浸入蚀刻溶液中进行蚀刻处理,其中,所述蚀刻溶液是在50℃的水中加入按质量份比组成的以下组分:0.95份高锰酸铵、0.85份草酸、0.95份硫酸铵、0.45份甘油和1.55份硫酸钡配制而成。

且所述蚀刻溶液的体积为300mL。

本发明揭示了一种工程塑料表面处理的蚀刻处理工艺,通过采用合理配比的蚀刻溶液,严格控制水温和蚀刻处理的时间,增大了工程塑料表面镀层的接触面和亲水性,从而有利于提高蚀刻表面的均匀性和表面镀层的结合力,并提高工程塑料的表面光洁度、耐磨性及强度,且处理工艺简单、方便。

以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其他相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

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