[发明专利]一种光学扩散膜片制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学扩散膜片制作方法，尤其涉及一种具有凹凸结构的光学扩散膜片的制作方法。

背景技术

扩散片的制作可分为两大类，一种是串珠型，亦即是将不同于基材折射率的粒子混掺于基材中，但其扩散性与透光率不易兼顾；另一种为压花型，亦即在膜片表面形成可扩散光的微结构，其表面形貌可分为随机形貌、规则形貌与波浪型形貌，其中波浪型形貌的制作通常采用雷射加工法刻印所需的模仁，通过控制雷射光能量的强度与光束大小来决定形貌变化，虽然波浪型形貌的微结构扩散性高，但限于目前的加工技术，仍无法制作出大面积扩散片，且制程需镭射曝光、显影、电铸与翻模步骤，导致成本高而造成使用性受限。

发明内容

故为解决上述无法制作大面积光学扩散膜片且成本高的问题，本发明的目的在于提供一种光学扩散膜片制作方法，当制作一凹凸结构时，制程中不需翻模，亦无需以电铸或热压等方式成型模仁或基板; 当制作二维以上的格子状结构时，制程中可视需求进行翻模，翻模方式包括电铸或热压等方式以成型模仁或基板，因此本发明可制作大面积的扩散片，相较传统镭射加工法刻印方式，不仅节省制程时间且对扩散结构形貌可精准控制，并降低制程成本，还可提供同时具有扩散与光场调控功能的扩散片，且应用于照明模块中时，更可减少其他扩散片的使用而达到薄型化的需求。

为达到上述目的，本发明采用以下技术方案：

一种光学扩散膜片制作方法，包括如下步骤：(A)以一刀具刻画一模仁，于模仁表面形成一凹凸结构；(B)将涂布胶的一膜片，经由模仁于膜片表面压印，并同时利用一光源曝光固化，于膜片表面形成与凹凸结构相对应的结构；(C)对膜片进行裁切制成一光学扩散膜片。其中步骤A所述刀具刻画模仁时，可以相同深度刻画或是变化刻画的深度，于模仁表面形成凹凸结构，且凹凸结构可经由二次以上的刻画加工，形成二维以上的格子状结构。

其中步骤A所述模仁可以为一滚筒模仁或一平面模仁，并且滚筒模仁与平面模仁可以为塑料、金属或金属合金材质。刀具可以为一钻石、金属、金属合金或其他硬度大于模仁的材质。模仁表面的凹凸结构的周期可为1µm～1mm之间，其波峰与波谷的深度差可在1µm～1mm之间，且凹凸结构可为正弦形、非球面形或多边形。其中步骤B膜片可为聚丙烯、聚乙烯对苯二甲酸酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚酸甲酯、或聚甲基丙烯酸等高分子材质；光源可以为紫外线、黄光、红外线、X射线、伽马射线或电子束。

一种光学扩散膜片制作方法，其步骤包括A.一刀具刻画一模仁时，变化刀具刻画的深度，于模仁表面形成一凹凸结构；B.将涂布胶的一膜片，经由模仁于膜片表面压印，并同时利用热压转印，于膜片表面形成与凹凸结构相对应的结构；C.对膜片进行裁切。其中步骤A所述刀具刻画模仁时，可以相同深度刻画或是变化刻画的深度，于模仁表面形成凹凸结构，且凹凸结构可经由二次以上的刻画加工，形成二维以上的格子状结构。

其中步骤A所述模仁可以为一滚筒模仁或一平面模仁，并且滚筒模仁与平面模仁可以为塑料、金属或金属合金材质。刀具可以为一钻石、金属、金属合金或其他硬度大于模仁的材质。模仁表面的凹凸结构的周期可为1µm～1mm之间，其波峰与波谷的深度差可在1µm～1mm之间，且凹凸结构可为正弦形、非球面形或多边形。其中步骤B所述膜片可为聚丙烯、聚乙烯对苯二甲酸酯、聚苯乙烯、聚碳酸酯、聚酸甲酯、或聚甲基丙烯酸等高分子材质；热压模仁温度介于360K至480K之间。

因此，本发明光学扩散膜片制作方法，利用刀具刻画模仁，刀具可以相同深度刻画或变化刻画的深度，于模仁表面形成凹凸结构，再以模仁压印涂布胶的膜片，并同时利用光源曝光固化，或利用热压转印，于模仁表面形成与凹凸结构相对应的结构，再对膜片进行裁切制成光学扩散膜片。故当光线经过光学扩散膜片，可通过凹凸结构或二维以上的格子状结构，对发光二极管（Light-Emitting Diode，LED）光源、小面积光源或背光源进行高度扩散与光场调控的功能，进而达到光线扩散及均匀化的目的。另外，当制作凹凸结构时，制程中不需翻模，亦无需以电铸或热压等方式成型模仁或基板; 当制作二维以上的格子状结构时，制程中可视需求进行翻模，翻模方式包括电铸或热压等方式以成型模仁或基板;相较传统镭射曝光方式，不仅节省制程时间且对扩散结构形貌可精准控制，并降低制程成本，还可制作大面积的光学扩散膜片，并且应用于照明模块中时，更可减少其他扩散片的使用而达到薄型化的需求。

附图说明

图1为本发明的光学扩散膜片制作方法流程图。

图2(a)为本发明的光学扩散膜片制作方法步骤A示意图。