[发明专利]一种模内镶件注塑结构和注塑方法有效
申请号: | 201310612266.7 | 申请日: | 2013-11-26 |
公开(公告)号: | CN103660133A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 郭远军;张少团;刘术宝 | 申请(专利权)人: | 东莞劲胜精密组件股份有限公司;东莞华晟电子科技有限公司 |
主分类号: | B29C45/14 | 分类号: | B29C45/14;B32B27/06;B32B27/36 |
代理公司: | 深圳新创友知识产权代理有限公司 44223 | 代理人: | 王震宇 |
地址: | 523878 *** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 模内镶件 注塑 结构 方法 | ||
技术领域
本发明涉及注塑成型技术,特别是一种模内镶件注塑结构和注塑方法。
背景技术
在消费电子行业,金属效果越来越受到消费者青睐,但是目前塑胶金属处理的工艺NCVM只能处理出全高光或全亚光的效果,全高光效果让消费者觉得太炫,亚光让消费者觉得档次不够。而目前要实现塑胶高亚光主要依赖于不同素材NCVM后在装配实现,这样工序复杂且有一条装配间隙。IML(In Molding Label,模内镶件注塑)工艺是涵盖了印刷、高压成型、冲切、注塑等加工工序,被应用于通信产品,如成型手机壳盖的装饰加工。IML工艺通过对模片基材进行裁料、平面印刷、油墨干燥固定、冲定位孔、热成型、贴保护膜、剪切外围形状,形成模片,然后将模片与注塑材料进行贴合成型,实现对手机外壳的装饰。传统的IML工艺采用PET等塑料材质为注塑用的模片基材,产品难以获得金属高亚光装饰效果。
发明内容
本发明的目的在于克服现有技术的不足,提供一种模内镶件注塑结构和注塑方法,通过一次注塑即可在电子产品表面实现金属高亚光装饰效果,实现电子产品外壳结构件非导电和环保的金属效果表面处理。
为实现上述目的,本发明采用以下技术方案:
一种模内镶件注塑结构,包括光学薄膜和涂覆在所述光学薄膜上的油墨层,所述光学薄膜、所述油墨层与注塑塑材注塑成型为一体,所述光学薄膜包括由折射率较高的树脂膜和折射率较低的树脂膜交替层叠形成层叠结构。
优选地:
所述层叠结构中的层连续的等间隔交替分布,且层的厚度在所述层叠结构的一端薄而另一端厚。
所述层叠结构中的层为波峰和波谷交替相间的波浪形。
所述层叠结构为800~1200层的层叠结构,总体厚度为100~300μm。
所述层叠结构为1000层的层叠结构,总体厚度为200μm。
所述折射率较高的树脂膜的折射率为1.7,所述折射率较低的树脂膜的折射率为1.6。
所述树脂膜为聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜或聚甲基丙烯酸甲酯膜或聚碳酸酯膜。
一种模内镶件注塑结构的注塑方法,包括以下步骤:
a.制作光学薄膜,所述光学薄膜包括由折射率较高的树脂膜和折射率较低的树脂膜交替层叠形成层叠结构;
b.在制作好的所述光学薄膜上涂覆油墨层,形成IML薄膜;
c.对IML薄膜进行成型和冲切;
d.将成型冲切好的IML薄膜置于模具内注塑形成所述模内镶件注塑结构。
优选地:
所述层叠结构中的层连续的等间隔交替分布,且层的厚度在所述层叠结构的一端薄而另一端厚。
所述层叠结构中的层为波峰和波谷交替相间的波浪形。
所述层叠结构为800~1200层的层叠结构,总体厚度为100~300μm,
所述层叠结构为1000层的层叠结构,总体厚度为200μm。
所述折射率较高的树脂膜的折射率为1.7,所述折射率较低的树脂膜的折射率为1.6。
本发明的有益技术效果:
采用本发明,通过一次注塑即可在电子产品塑胶表面实现金属高亚光装饰效果,实现了电子产品外壳结构件非导电和环保的金属效果表面处理。与采用电镀和蒸镀方式的薄膜不同,本发明完全没有使用金属,因此不用担心生锈或剥落。本发明不但装饰效果好,还方便产品的回收利用,且消除了金属电镀带来的环保问题。
附图说明
图1为本发明的注塑方法一种实施例的流程图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的实施例作详细说明。应该强调的是,下述说明仅仅是示例性的,而不是为了限制本发明的范围及其应用。
在一些实施例里,一种模内镶件注塑结构包括光学薄膜和涂覆在所述光学薄膜上的油墨层,所述光学薄膜、所述油墨层与注塑塑材注塑成型为一体,所述光学薄膜包括由折射率较高的树脂膜和折射率较低的树脂膜交替层叠形成层叠结构。本发明光学薄膜的基本原理是利用光线的干涉效应,当光线入射于不同折射系数交替层叠的层叠结构的薄膜时将产生特殊光学效果,带来金属高亚光装饰效果。
在优选的实施例里,所述层叠结构中的层连续的等间隔交替分布,且层的厚度在所述层叠结构的一端薄而另一端厚。更优选地,所述层叠结构中的层为波峰和波谷交替相间的波浪形。所述层叠结构优选为800~1200层的层叠结构,总体厚度为100~300μm。更优选地,所述层叠结构为1000层的层叠结构,总体厚度为200μm,平均层厚约为0.2μm。
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