[发明专利]测试图形的标记方法和标记装置

权利要求书

1.一种测试图形的标记方法，其特征在于，包括：

提供测试图形，所述测试图形包括多个规则无间断的条状图形；

确定所述测试图形的待量测点；

在所述测试图形上，所述待量测点周围的对称位置处设置多个开口，所述多个开口的每个开口使得经过该位置的条状图形间断；

其中，所述多个开口到所述待量测点的距离相等，并且所述距离至少满足：所述开口对于该测试图形的光学特性影响程度小于等于2％。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述多个开口的个数为大于等于2的偶数。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述多个开口组成以待量测点为中心的矩形框，所述开口位于所述矩形框的四个顶点处。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述开口到待量测点的距离大于4(λ/NA)/(1+sigma_out)，其中，λ为光刻工艺中光源的波长，NA为数值孔径，sigma_out为光刻系统参数。

5.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述开口到待量测点的距离大于5(λ/NA)/(1+sigma_out)，其中，λ为光刻工艺中光源的波长，NA为数值孔径，sigma_out为光刻系统参数。

6.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述开口到待量测点在水平轴向方向上的距离小于量测屏幕尺寸的1/2，所述量测屏幕尺寸指的是测量放大倍率条件下量测屏幕对应的有效尺寸。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述开口的尺寸小于条状图形尺寸的1/2。

8.一种测试图形的标记装置，其特征在于，包括：

提供单元，用以提供测试图形，所述测试图形包括多个规则无间断的条状图形；

定位单元，用以确定所述测试图形的待量测点；

标记单元，用以在所述测试图形上，所述待量测点周围的对称位置处设置多个开口，所述多个开口的每个开口使得经过该位置的条状图形间断；

其中，所述多个开口到所述待量测点的距离相等，并且所述距离至少满足：所述开口对于该测试图形的光学特性影响程度小于等于2％。

9.如权利要求8所述的标记装置，其特征在于，所述多个开口的个数为大于等于2的偶数。

10.如权利要求8所述的标记装置，其特征在于，所述多个开口组成以待量测点为中心的矩形框，所述开口位于所述矩形框的四个顶点处。

11.如权利要求10所述的标记装置，其特征在于，所述开口到待量测点的距离大于4(λ/NA)/(1+sigma_out)，其中，λ为光刻工艺中光源的波长，NA为数值孔径，sigma_out为光刻系统参数。

12.如权利要求10所述的标记装置，其特征在于，所述开口到待量测点的距离大于5(λ/NA)/(1+sigma_out)，其中，λ为光刻工艺中光源的波长，NA为数值孔径，sigma_out为光刻系统参数。

13.如权利要求8所述的标记装置，其特征在于，所述开口到待量测点在水平轴向方向上的距离小于量测屏幕尺寸的1/2，所述量测屏幕尺寸指的是测量放大倍率条件下量测屏幕对应的有效尺寸。

14.如权利要求8所述的标记装置，其特征在于，所述开口的尺寸小于条状图形尺寸的1/2。