[发明专利]一种马铃薯高垄膜上覆土栽培技术

权利要求书

1.一种马铃薯高垄膜上覆土栽培技术，其特征是在普通地膜覆盖垄沟栽培的基础上，借鉴土壤压砂覆盖技术，通过2次垄面培土，在地膜上覆盖厚度4～6 cm 的土层，形成高垄，以实现覆盖抑蒸、节省劳力、绿色环保、节水增产等特点。

2.如权利要求1所述的一种马铃薯高垄膜上覆土栽培技术，其特征在于垄一般带幅110 cm，垄宽70 cm，垄面宽55cm，沟宽40 cm，垄高25～30 cm。

3.如权利要求1所述的一种马铃薯高垄膜上覆土栽培技术，其特征在于在土壤10cm深处地温达到8～10℃时播种，每垄播2行，呈三角形点种，行距25～35cm，播深10-12cm。

4.如权利要求1所述的一种马铃薯高垄膜上覆土栽培技术，其特征在于整个生育期覆土两次，第一次马铃薯出苗前一周左右，苗距膜面2厘米前，在地膜上人工或机械覆土2～3厘米，以实现自然出苗，第二次在封行前进行，即马铃薯株高20厘米左右，覆土3～4厘米，以实现高垄栽培。

5.如权利要求1所述的一种马铃薯高垄膜上覆土栽培技术，其特征在于采用半沟量灌水，防止淹垄。