[发明专利]一种浮雕实现装置及其实现方法

权利要求书

1.一种浮雕实现方法，其特征在于，包括：

步骤1）提取照片中的灰度值：

步骤2）将所述灰度值转换为激光能量值；

步骤3）根据所述激光能量值进行点阵式打点，所述激光能量值越大，所述打点的深度越深，所述激光能量值越小，所述打点的深度越浅。

2.根据权利要求1所述的浮雕实现方法，其特征在于，所述步骤1）还包括步骤11）提取照片的像素值，所述步骤2）还包括步骤21）将所述像素值转换为点阵密度，所述步骤3）还包括步骤31）根据所述点阵密度确定打点密度。

3.根据权利要求2所述的浮雕实现方法，其特征在于，所述点阵密度能够重新设定，或者能够进行修改。

4.根据权利要求1所述的浮雕实现方法，其特征在于，还包括步骤4）当所述激光能量值与所述打点密度确定后，根据激光打标速度调节整体打点深浅和打标时间。

5.根据权利要求1所述的浮雕实现方法，其特征在于，所述照片为灰度图。

6.根据权利要求1所述的浮雕实现方法，其特征在于，所述照片为灰阶图。

7.根据权利要求1所述的浮雕实现方法，其特征在于，所述照片为3D位图。

8.根据权利要求1所述的浮雕实现方法，其特征在于，所述照片为灰度格式的照片。

9.一种浮雕实现装置，其特征在于，包括第一转换装置和镭射机，所述第一转换装置能够将照片的灰度值转换为激光能量值，所述镭射机根据所述激光能量值进行点阵式打点，所述激光能量值越大，所述打点的深度越深，所述激光能量值越小，所述打点的深度越浅。

10.根据权利要求1所述的浮雕实现装置，其特征在于，还包括第二转换装置，所述第二转换装置能够将照片的像素值转换为点阵密度，并且点阵密度可修改，所述镭射机根据所述点阵密度确定打点密度。