[发明专利]一种锑铽共掺杂铅锑酸盐发光材料及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种锑铽共掺杂铅锑酸盐发光材料，其特征在于，所述发光材料的分子表达式为RPb_4-x-ySb₆O₂₄：xSb³⁺,yTb³⁺，其中RPb_4-x-ySb₆O₂₄是基质，Sb³⁺和Tb³⁺是激活元素，R为Mg,Ca,Ba或Sr，x的取值范围为0.01～0.05，y的取值范围为0.01～0.08。

2.根据权利要求1所述的锑铽共掺杂铅锑酸盐发光材料，其特征在于，所述x的取值为0.02，所述y的取值为0.04。

3.一种锑铽共掺杂铅锑酸盐发光材料的制备方法，其特征在于，所述发光材料的制备包括如下步骤：

（1）制备组成为RO·（4-x-y）PbO₂·3Sb₂O₅·xSbO₂·y/4Tb₄O₇的靶材,其中x的取值范围为0.01～0.05，y的取值范围为0.01～0.08；

（2）将所述靶材和ITO玻璃衬底装入脉冲激光沉积镀膜设备的真空腔体内，在所述ITO玻璃衬底表面上沉积得到发光材料前体；

（3）将所述发光材料前体进行退火处理，得到所述锑铽共掺杂铟钒酸盐发光材料，所述发光材料的分子表达式为RPb_4-x-ySb₆O₂₄：xSb³⁺,yTb³⁺，其中RPb_4-x-ySb₆O₂₄是基质，Sb³⁺和Tb³⁺是激活元素，R为Mg,Ca,Ba或Sr，x的取值范围为0.01～0.05，y的取值范围为0.01～0.08。

4.根据权利要求3所述的锑铽共掺杂铅锑酸盐发光材料的制备方法，其特征在于，所述x的取值为0.02，所述y的取值为0.04。

5.根据权利要求3或4所述的锑铽共掺杂铅锑酸盐发光材料的制备方法，其特征在于，步骤（1）中制备所述靶材的步骤包括：按照摩尔比为1：（4-x-y）：3：x：y/4的比例分别称取RO，PbO₂，Sb₂O₅，SbO₂和Tb₄O₇的粉体，并将所述粉体均匀混合后在900℃～1300℃下烧结，制成靶材。

6.根据权利要求5所述的锑铽共掺杂铅锑酸盐发光材料的制备方法，其特征在于，所述靶材制备的烧结温度为1250℃。

7.根据权利要求3或4所述的锑铽共掺杂铅锑酸盐发光材料的制备方法，其特征在于，步骤（2）中所述激光脉冲沉积过程的工艺参数为：基靶间距为45mm～95mm，真空腔体的真空度为1.0×10^-3Pa～1.0×10^-5Pa，衬底温度为250℃～750℃，脉冲激光的能量为80mJ～300mJ，沉积过程中通入的氧气的流量为10sccm～40sccm，脉冲激光沉积工作压强为0.5Pa～5Pa，脉冲激光的频率为5Hz～15Hz。

8.根据权利要求7所述的锑铽共掺杂铅锑酸盐发光材料的制备方法，其特征在于，所述激光脉冲沉积过程的工艺参数为：所述基靶间距为60mm，所述真空腔体的真空度为5.0×10^-4Pa，所述衬底温度为500℃，所述脉冲激光的能量为150mJ，所述沉积过程中通入的氧气的流量为20sccm，所述脉冲激光沉积工作压强为3Pa，所述脉冲激光的频率为10Hz。

9.根据权利要求3或4所述的锑铽共掺杂铅锑酸盐发光材料的制备方法，其特征在于，步骤（3）中所述真空退火处理中的退火温度为800℃～1000℃，退火时间为0.5h～3h。

10.一种薄膜电致发光器件，所述薄膜电致发光器件包括依次层叠设置的ITO玻璃衬底、发光层和阴极，其特征在于，所述发光层采用的发光材料的分子表达式为RPb_4-x-ySb₆O₂₄：xSb³⁺,yTb³⁺，其中RPb_4-x-ySb₆O₂₄是基质，Sb³⁺和Tb³⁺是激活元素，R为Mg,Ca,Ba或Sr，x的取值范围为0.01～0.05，y的取值范围为0.01～0.08。