[发明专利]一种触摸屏及其制作方法

权利要求书

1.一种触摸屏的制作方法，包括：在基板上形成金属连接层的图案、绝缘层的图案、驱动电极的图案、感应电极的图案和保护层的图案；其特征在于，所述绝缘层的图案和所述保护层的图案通过同一块掩膜版形成；

所述驱动电极的图案和所述感应电极的图案通过同一块掩膜版在同一层形成；

其中，所述保护层的图案通过第二掩膜版对感光材料进行曝光显影时，实现周边的过孔位置处对应的感光材料完全被曝光、像素区域保护层上的过孔位置处对应的感光材料部分曝光所形成。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述绝缘层的图案的形成方法为：

首先，在形成有金属连接层的图案的基板上沉积一层非金属薄膜，并在所述非金属薄膜上涂覆感光材料；

其次，利用第二掩膜版对所述感光材料进行曝光显影，在对应绝缘层的图案区域形成感光材料的完全去除区；

其中，通过调整感光材料的厚度和曝光量，令绝缘层上的过孔位置处对应的感光材料完全被曝光。

3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述感光材料的厚度为：2-3um。

4.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述曝光量的调节方法为：调整曝光光源的扫描速度为100-200mm/s。

5.根据权利要求2、3或4所述的方法，其特征在于，所述保护层的图案的形成方法为：

首先，在形成有驱动电极的图案和感应电极的图案的基板上沉积一层非金属薄膜，并在所述非金属薄膜上涂覆感光材料；

其次，利用所述第二掩膜版对所述感光材料进行曝光显影，在对应周边驱动区域的保护层的图案区域形成感光材料的完全去除区，在对应像素区域的保护层的图案区域形成半保留区；

其中，通过调节感光材料的厚度和曝光量，实现周边的过孔位置处对应的感光材料完全被曝光，像素区域保护层上的过孔位置处对应的感光材料部分曝光。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述感光材料的厚度为：2-3um。

7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述曝光量的调节方法为：调整曝光光源的扫描速度为200-300mm/s。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法具体包括：

通过第一掩膜版在基板上形成金属连接层的图案；

通过第二掩膜版形成绝缘层的图案；

通过第三掩膜版形成驱动电极的图案和感应电极的图案；

通过第二掩膜版形成保护层的图案。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，形成所述绝缘层的图案和所述保护层的图案的所述掩膜版对应像素区域绝缘层的过孔部分为半透光。

10.一种触摸屏，包括：金属连接层的图案、绝缘层的图案、驱动电极的图案和感应电极的图案、保护层的图案；其特征在于，所述绝缘层的图案和保护层的图案采用权利要求1-9中任一项所述的方法制作。