[发明专利]脉冲激光沉积装置

权利要求书

1.一种脉冲激光沉积装置，包括沉积腔以及设于沉积腔内的靶材（4）和基板座（1），所述的基板座（1）与靶材（4）相对设置，沉积腔腔体上设有与靶材倾斜相对的光学窗口，用于入射脉冲激光（5）以轰击靶材（4），靶材（4）烧蚀后产生等离子气（3）并到达基板座（1）上的基板（2）表面，作用生成目标薄膜，其特征在于：所述的靶材（4）为圆盘状，由多种不同材料的扇形体组成。

2.根据权利要求1所述的一种脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述的靶材（4）可转动。

3.根据权利要求1所述的一种脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述的基板座（1）可转动。

4.根据权利要求2或3所述的一种脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述靶材（4）和基板座（1）的转动方向相反。

5.根据权利要求4所述的一种脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述的靶材（4）设于沉积腔底部，所述的基板座（1）设于沉积腔顶部。

6.根据权利要求5所述的一种脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述的靶材（4）为二元靶材，包括夹角为θ_A的A材料扇形体（42）和夹角为θ_B的B材料扇形体（41），θ_A+θ_B =360°。

7.根据权利要求5所述的一种脉冲激光沉积装置，其特征在于，所述的靶材（4）为A材料扇形体（42）、B材料扇形体（41）和C材料扇形体构成的三元靶材。