[发明专利]薄基片相位幅度校正振子平面喇叭天线有效
申请号: | 201310621171.1 | 申请日: | 2013-11-29 |
公开(公告)号: | CN103606732A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 殷晓星;赵洪新;苑婷婷 | 申请(专利权)人: | 东南大学 |
主分类号: | H01Q1/36 | 分类号: | H01Q1/36;H01Q13/02;H01Q1/38 |
代理公司: | 江苏永衡昭辉律师事务所 32250 | 代理人: | 王斌 |
地址: | 210096*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 薄基片 相位 幅度 校正 平面 喇叭天线 | ||
1.薄基片相位幅度校正振子平面喇叭天线,其特征在于该天线包括设置在介质基板(1)上的微带馈线(2)、基片集成喇叭天线(3)和多个振子(4);所述微带馈线(2)的第一端口(5)是该天线的输入输出端口,微带馈线(2)的第二端口(6)与基片集成喇叭天线(3)相接;基片集成喇叭天线(3)由位于介质基板(1)一面的第一金属平面(7)、位于介质基板(1)另一面的第二金属平面(8)和穿过介质基板(1)连接第一金属平面(7)和第二金属平面(8)的两排金属化过孔喇叭侧壁(9)组成,基片集成喇叭天线(3)的两排金属化过孔喇叭侧壁(9)之间的宽度逐渐变大,形成一个喇叭形张口,张口的末端是基片集成喇叭天线(3)的口径面(10);基片集成喇叭天线(3)中有金属化过孔阵列(11)连接第一金属平面(7)和第二金属平面(8),金属化过孔阵列(11)的一端在基片集成喇叭天线(3)内部,金属化过孔阵列(11)的另一端在基片集成喇叭天线(3)的口径面(10)上;相邻的两个金属化过孔阵列(11)、或者是一个金属化过孔阵列(11)与其相邻的一排金属化过孔喇叭侧壁(9),与第一金属平面(7)和第二金属平面(8)构成介质填充波导(12);在基片集成喇叭天线(3)的口径面(10)上,每个介质填充波导(12)的宽度相等,在口径面(10)外每个介质填充波导(12)接有一个振子(4)。
2.根据权利要求1所述的薄基片相位幅度校正振子平面喇叭天线,其特征在于微带馈线(2)的导带(13)与第一金属平面(7)相接,微带馈线(2)的接地面(14)与第二金属平面(8)相接。
3.根据权利要求1所述的薄基片相位幅度校正振子平面喇叭天线,其特征在于所述的金属化过孔阵列(11)的形状由头端折线段(15)、多边形(16)和尾端折线段(17)三段相连构成,金属化过孔阵列(11)中的多边形(16)可以是三角形、四边形、五边形或其它多边形,多边形(16)的一条边或者多条边的形状可以是直线、弧线或其它曲线;金属化过孔阵列(11)中的头端折线段(15)和尾端折线段(17)的形状可以是直线、折线或指数线等,其长度可以是接近零或者是有限长度。
4.根据权利要求1或3所述的薄基片相位幅度校正振子平面喇叭天线,其特征在于介质填充波导(12)的宽度要使得电磁波可以在其中传播而不被截止。
5.根据权利要求1或3或4所述的薄基片相位幅度校正振子平面喇叭天线,其特征在于所述的金属化过孔阵列(11)中,调整相邻两列金属化过孔阵列(11)之间的距离、或者调整一列金属化过孔阵列(11)与基片集成波导喇叭天线(3)侧壁金属化过孔(9)之间的距离,能够改变介质填充波导(12)的宽度,进而调整在该介质填充波导(12)中电磁波传播的相速,使得到达天线口径面(10)上电磁波的相位分布更均匀。
6.根据权利要求1或3或4所述的薄基片相位幅度校正振子平面喇叭天线,其特征在于所述的金属化过孔阵列(11)中, 改变一列或者多列金属化过孔阵列(11)的长度能够改变相应介质填充波导(12)的长度,使得到达天线口径面(10)上电磁波的相位分布更均匀。
7.根据权利要求1或3或4所述的薄基片相位幅度校正振子平面喇叭天线,其特征在于选择金属化过孔阵列(11)中头端折线段(15)或多边形(16)在基片集成喇叭天线(3)中的位置和尺寸,使得在每个介质填充波导(12)中传输的电磁波功率相等。
8.根据权利要求1所述的薄基片相位幅度校正振子平面喇叭天线,其特征在于每个振子(4)在位于介质基板(1)的两面分别有第一辐射臂(18)和第二辐射臂(19),振子(4)的第一辐射臂(18)与基片集成喇叭天线(3)的第一金属平面(7)相连,振子(4)的第二辐射臂(19)与基片集成喇叭天线(3)的第二金属平面(8)相连,每个振子(4)的第一辐射臂(18)和第二辐射臂(19)向相反的方向伸展。
9.根据权利要求1所述的薄基片相位幅度校正振子平面喇叭天线,其特征在于所述的金属化过孔喇叭侧壁(9)和金属化过孔阵列(11)中,相邻的两个金属化过孔的间距要小于或等于工作波长的十分之一,使得构成的金属化过孔喇叭侧壁(9)和金属化过孔阵列(11)能够等效为电壁。
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