[发明专利]一种对金属极低腐蚀的光刻胶清洗液

权利要求书

1.一种光刻胶清洗液，其特征在于，包含季胺氢氧化物，醇胺，溶剂，C₄‐C₆的多元醇，噻唑衍生物。

2.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的季胺氢氧化物的含量为0.1‐6wt%，所述的醇胺含量为0.1‐30wt%，所述的C₄‐C₆的多元醇含量为0.1‐10wt%，所述的噻唑衍生物含量为0.1‐5wt%，所述的溶剂为余量。

3.如权利要求2所述的清洗液，其特征在于：所述的季胺氢氧化物的含量为0.5‐3.5wt%，所述的醇胺含量为0.5‐20wt%，所述的C₄‐C₆的多元醇的含量为0.1～5wt%，所述的噻唑衍生物含量为0.5‐2.5wt%，所述的溶剂为余量。

4.如权利要求3所述的清洗液，其特征在于：所述的C₄‐C₆的多元醇的含量为0.5‐3wt%。

5.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于：所述的季胺氢氧化物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、十六烷基三甲基氢氧化铵和苄基三甲基氢氧化铵中的一种或多种。

6.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的醇胺选自单乙醇胺、N-甲基乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、乙基二乙醇胺、N，N-二乙基乙醇胺、N-(2-氨基乙基)乙醇胺和二甘醇胺。

7.如权利要求6所述的清洗液，其特征在于，所述的醇胺为单乙醇胺、三乙醇胺及其混合物。

8.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的C₄‐C₆多元醇为选自苏阿糖、阿拉伯糖、木糖、核糖、核酮糖、木酮糖、葡萄糖、甘露糖、半乳糖、塔格糖、阿洛糖、阿卓糖、艾杜糖、塔罗糖、山梨糖、阿洛酮糖、果糖、苏糖醇、赤藓醇、核糖醇、阿拉伯糖醇、木糖醇、塔罗糖醇、山梨醇、甘露醇、艾杜糖醇和半乳糖醇中的一种或者几种。

9.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的噻唑衍生物选自2,5-二(叔-十二烷基二硫代)-1,3,4-噻二唑、2,5-二巯基-1，3，4-噻二唑、5-(2-氯苯甲基硫代)-2-巯基-1,3,4-噻二唑、2,5-双(辛基二硫代)噻二唑、2-巯基苯并噻唑、2-巯基噻二唑，2-氨基-1，3，4-噻二唑，2-巯基-5-甲基-1，3，4-噻二唑、5-甲基-2-巯基噻二唑、2,1,3-苯并噻二唑、2-氨基噻唑中的一种或多种。

10.如权利要求1所述的清洗液，其特征在于，所述的溶剂为亚砜、砜、咪唑烷酮、吡咯烷酮、咪唑啉酮、酰胺和醇醚中的一种或多种。

11.如权利要求10所述的清洗液，其特征在于，所述的亚砜为二甲基亚砜和/或甲乙基亚砜；所述的砜为甲基砜和/或环丁砜；所述的咪唑烷酮为2‐咪唑烷酮和/或1,3‐二甲基‐2‐咪唑烷酮；所述的吡咯烷酮为N‐甲基吡咯烷酮和/或N‐环己基吡咯烷酮；所述的咪唑啉酮为1,3‐二甲基‐2‐咪唑啉酮；所述的酰胺为二甲基甲酰胺和/或二甲基乙酰胺；所述的醇醚为二乙二醇单丁醚和/或二丙二醇单甲醚。

12.一种如权利要求1‐11任一项所述的清洗液在去除去除晶圆上的光刻胶光阻残留物中的应用。