[发明专利]晶片清洗机自动供水加压装置在审

专利信息
申请号: 201310625393.0 申请日: 2013-11-29
公开(公告)号: CN103691717A 公开(公告)日: 2014-04-02
发明(设计)人: 谢小东 申请(专利权)人: 铜陵日科电子有限责任公司
主分类号: B08B13/00 分类号: B08B13/00
代理公司: 安徽信拓律师事务所 34117 代理人: 鞠翔
地址: 244000 *** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 晶片 清洗 自动 供水 加压 装置
【权利要求书】:

1.一种晶片清洗机自动供水加压装置,其特征在于:包括洗片机及水箱,在所述洗片机与水箱之间连接有供水泵,所述供水泵与洗片机之间的管路上安装有一增压阀,所述供水泵与水箱之间的管路上安装有一流量控制阀,在所述洗片机上安装有一压力阀,该压力阀用于实时显示洗片机内的压力状况,并根据该压力状况控制增压阀启闭的幅度,以此达到预定的压力值。

2.根据权利要求1所述的晶片清洗机自动供水加压装置,其特征在于:所述水箱内设有一水位感应器,该水位感应器连接有报警器。

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