[发明专利]基板转移暨处理系统以及基板转移暨处理方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种基板转移暨处理系统以及基板转移暨处理方法，尤其是涉及一种可大幅减少药液供给量、提升薄膜沉积均一性且提升产能的基板转移暨处理系统以及基板转移暨处理方法。 

背景技术

现今电子工业迅速发展，许多电子产品都需要应用到物理沉积技术或化学沉积技术。另外全世界面临石油能源耗竭、成本高昂及环保等问题，造成太阳能与氢能源燃料电池的需求与日俱增，由于太阳能电池制造时，必须在一基材上构成多种沉积层(薄膜)，才能有效的发挥其功能，足见沉积制程为电子产业及民生产业一个极为重要的关键技术。 

现有的化学浴沉积(Chemical Bath Deposition，CBD)制程，也为沉积技术的一，其将表面预作处理的一基材(例如太阳能电池基板)浸入化学药液中持续一定时间，用来在基材表面沉积形成半导体薄膜。但现有的化学浴沉积设备，将基材完全浸入化学药液之中，如此将导致基材多个表面形成半导体薄膜。然而，基材只需要在一表面形成半导体薄膜。多基材其余表面所形成的半导体薄膜浪费制造成本与制程时间。 

因此，如何发明出一种化学镀浴沉积设备，以使化学镀浴沉积设备可在挠性基材的单面进行化学镀浴沉积，是一重要课题。 

发明内容

针对现有技术的不足，本发明的目的在于：提供一种基板转移暨处理系统以及基板转移暨处理方法，解决现有技术中存在的各种问题。 

为实现上述目的，本发明采用的技术方案是： 

一种基板转移暨处理系统，用来转移与处理一基板，其特征在于，该基板转移暨处理系统包含： 

一基板转移装置，用来将该基板于一输送路径上移动； 

至少一热板装置，设置于该输送路径上，用来承载并加热该基板； 

一药液装置，设置于该输送路径上，该药液装置被驱动移动至该热板装置所承载的该基板处，该药液装置与该基板的上表面形成一封闭空间，在该封闭空间提供一药液与该基板的该上表面接触以产生一化学反应；以及 

一倾斜装置，用来倾斜该热板装置、该药液装置及该基板至一角度； 

其中，该热板装置对该基板加热以使该基板与该药液加速进行该化学反应。 

所述的基板转移暨处理系统，其中，该基板转移装置包括： 

一入口端，提供未与该药液接触的该基板进入该输送路径；以及 

一出口端，提供完成该化学反应的该基板由该输送路径输出。 

所述的基板转移暨处理系统，其中：该入口端设有一第一清洗装置，用来清洗该未与该药液接触的该基板。 

所述的基板转移暨处理系统，其中：该出口端设有一第二清洗装置，用来清洗由该出口端被送出的该基板。 

所述的基板转移暨处理系统，其中，该倾斜装置包含： 

一平台，用来承载该热板装置； 

一固定转轴，设置于该平台底部其中一侧； 

一升降装置，设置于该平台底部相对于设有该固定转轴的一侧，该升降装置以该固定转轴为支点进行升降往复运动时，用来倾斜该热板装置、该药液装置及该基板至一角度。 

所述的基板转移暨处理系统，其中：该药液装置被驱动倾斜至一角度时，能够将该药液排出该药液装置。 

所述的基板转移暨处理系统，其中：该升降装置为气压装置或油压装置。 

所述的基板转移暨处理系统，其中，该药液装置包括： 

一盖体；以及 

一盖体固定装置，用来将该盖体移送至该热板装置所承载的该基板处，以使该盖体与该基板的上表面形成一封闭空间。 

所述的基板转移暨处理系统，其中：该盖体固定装置设有一药液供给装置，用来将药液注入该封闭空间内。 

所述的基板转移暨处理系统，其中：还包括一冲洗装置，用来冲洗该基板及该盖体。 

所述的基板转移暨处理系统，其中：该盖体具有一第一开口，用来提供该药液注入该封闭空间内，或提供该药液排出于该封闭空间之外，或提供该冲洗装置冲洗该基板或该盖体。 

所述的基板转移暨处理系统，其中：该盖体具有一第二开口，该第一开口与该第二开口分别作为供该药液注入于该封闭空间内及供该药液排出于该封闭空间外，该第一开口与该第二开口的其中一个可供该冲洗装置冲洗该基板或该盖体。 

所述的基板转移暨处理系统，其中：该盖体具有一第三开口，用来提供该冲洗装置冲洗该基板或该盖体，该第一开口与该第二开口分别作为供该药液注入于该封闭空间内及提供该药液排出于该封闭空间外。