[发明专利]一种透明结构的晶体制备装置

权利要求书

1.一种透明结构的晶体制备装置，分为温度控制、结晶器、溶液循环流动和显微观测四个组成部分；主体结构包括温控表、热电偶、红外加热灯、循环水泵、溶液缸、外缸、生长溶液、电热板、显微镜物镜、晶体生长槽、生长晶体、溶液导管和计算机；主体结构设置为一体式装置，其特征在于温控表设置在装置顶部与热电偶电信息连接，并与红外加热灯温度传递连通，透明玻璃制成的溶液缸内70%～80%的空间中置存生长溶液，生长溶液中竖向设置有电热偶，生长溶液上部中设置有循环水泵，循环水泵经过溶液导管并串过装置底部的晶体生长槽形成循环回路，溶液导管的回程段的末端接通于溶液缸的底部；溶液缸外围制有透明玻璃体质的外缸，外缸左右两侧壁上分别对称式结构制有红外加热灯，直接对向溶液缸内的溶液并加热，溶液缸底面与外缸底面之间对称斜向设置有两个电热板，外缸下底面下部设置有计算机，计算机底端装有显微镜物镜直接对向晶体生长槽中的生长晶体，其显微镜物镜采集的信息直接输入计算机，装置底部设置有盒式结构的晶体生长槽，其内部设置有生长晶体，并沐浴来自于溶液导管的生长溶液。

2.根据权利要求1所述的透明结构的晶体制备装置，其特征在于温度控制部分包括温控表、热电偶、红外加热灯和电热板；用热电偶采集生长溶液的温度信号并传入温控表，温控表按照实验预定的程序通过控制红外加热灯的加热功率来实现生长溶液的自动智能控制。

3.根据权利要求1所述的透明结构的晶体制备装置，其特征在于结晶器部分由晶体生长槽和生长晶体组成，经过控温的循环流动的饱和溶液使晶体在过饱和度下生长，饱和溶液经过晶体生长表面使晶体表面生长溶液过饱和度均匀。

4.根据权利要求1所述的透明结构的晶体制备装置，其特征在于溶液循环流动部分由循环水泵和溶液导管组成，循环水泵与连续可调变压器相连接，通过调整变压器的输出电压来连续控制装置中生长溶液的流速。

5.根据权利要求1所述的透明结构的晶体制备装置，其特征在于显微观测部分由显微镜和计算机配合连通构成，晶体生长过程直接通过显微镜观察，利用计算机中的图像采集程序，对晶体生长的微观过程进行实时观察、拍照和录像，通过分析得到图片和视频资料，也得到晶体生长过程中的各种动力学数据和生长表面结构的演化过。