[发明专利]鎓化合物以及制备其的方法

权利要求书

1.一种制备鎓盐化合物的方法，所述方法包括：

(a)提供包含磺酸盐组分的鎓盐化合物，其中该磺酸盐组分包含吸电子基团；

和

(b)用卤化物盐处理该鎓盐化合物以形成不同的鎓化合物盐。

2.权利要求1的方法，其中一个或多个吸电子基团包含一个或多个卤原子。

3.权利要求1的方法，其中磺酸盐组分是三氟甲磺酸盐。

4.权利要求1到3中任一项的方法，其中磺酸盐组分是以下通式(I)的磺酸盐：

其中R₁和R₃独立的选自氢原子、卤素、氰基、硝基、任选取代的烷基和任选取代的碳环芳基；

R₂与R₁和R₃相同或不同，并且选自连接基团、氢原子、卤素、氰基、硝基、任选取代的烷基和任选取代的碳环芳基，

其中R₁、R₂和R₃中的至少一个是吸电子基团。

5.权利要求6的方法，其中R₁、R₂和R₃中的至少一个是卤素或卤代烷基。

6.权利要求1到5中任一项的方法，其中(i)用卤化物盐处理鎓盐以形成鎓化合物的卤化物盐并且(ii)进一步处理鎓化合物的卤化物盐以提供不同的鎓化合物盐。

7.一种制备光致抗蚀剂组合物的方法，所述方法包括混合权利要求1-6中任一项的鎓化合物的不同的盐和聚合物以提供光致抗蚀剂组合物。

8.一种光刻方法，所述方法包括：(i)在基材表面施用根据权利要求7制备的光致抗蚀剂组合物的涂层；(ii)使光致抗蚀剂组合物层曝光于活化辐射；以及(iii)使曝光的光致抗蚀剂组合物层显影以提供抗蚀剂浮雕图像。

9.一种鎓盐化合物，其通过包括以下步骤的方法获得：

(a)提供一种包含磺酸盐组分的鎓盐，其中该磺酸盐组分包含吸电子基团；

(b)用卤化物盐处理该磺酸盐以形成鎓化合物的卤化物盐；以及

(c)处理该鎓化合物的卤化物盐以形成不同的鎓化合物盐。

10.包含聚合物和权利要求9的鎓盐化合物的光致抗蚀剂。