[发明专利]生酸剂化合物和含有其的光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种光致抗蚀剂组合物，所述光致抗蚀剂组合物包括：

(a)聚合物；和

(b)包含式(I)结构的生酸剂化合物：

其中：Z是抗衡阴离子；

R是非氢取代基；

X是>C＝O；

每个T和每个T'是相同或不同的非氢取代基；

每个L和每个L'是相同或不同的酸不稳定性基团，且T、L、T'和L'非氢基团可以一起形成环；

m和m'各自独立的为0、1、2、3或4；并且

n和n'各自独立的为0、1、2、3或4，

其中如果R不包含酸不稳定性基团，那么n和n'中的至少一个大于0，由此生酸剂化合物包括至少一个酸不稳定性基团。

2.权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中生酸剂包括式(IA)的结构：

其中：Z是抗衡阴离子；

X是>C＝O；

每个T、每个T'和每个T”是相同或不同的非氢取代基；

每个L、每个L'和每个L”是相同或不同的酸不稳定性基团，且T、L、T'、L'、T”和L”非氢基团可以一起形成环；

m和m'各自独立的为0、1、2、3或4；m”是0、1、2、3、4或5；n和n'各自独立的为0、1、2、3或4；n”独立的是0、1、2、3、4或5；且n、n'和n”中的至少一个不是0。

3.权利要求1的光致抗蚀剂组合物，其中生酸剂包括式(IC)的结构：

其中：Z是抗衡阴离子；

每个T、每个T'和每个T”是相同或不同的非氢取代基；

每个L、每个L'和每个L”是相同或不同的酸不稳定性基团，且T、L、T'、L'、T”和L”非氢基团可以一起形成环；

m和m'各自独立的为0、1、2、3或4；m”是0、1、2、3、4或5；n和n'各自独立的为0、1、2、3或4；n”独立的是0、1、2、3、4或5；且n、n'和n”中的至少一个不是0。

4.权利要求1到3中任一项的光致抗蚀剂组合物，其中生酸剂化合物包含下式(II)的酸不稳定性基团：

-(C＝O)OR³ (II)

其中R³是提供酸不稳定性部分的非氢取代基。

5.权利要求1到3中任一项的光致抗蚀剂组合物，其中生酸剂化合物包含下式(III)的酸不稳定性基团：

-O(CXY)_nR³ (III)

其中X和Y各自独立的为氢或非氢取代基；R³是提供酸不稳定性部分的非氢取代基；且n是正整数。

6.权利要求1到3中任一项的光致抗蚀剂组合物，其中生酸剂化合物在标准还原电势试验中表现出-0.9到0V(vs.Ag/AgCl，阴极峰电势)的还原电势。

7.权利要求1到3中任一项的光致抗蚀剂组合物，其中生酸剂化合物与聚合物共价相连。

8.一种提供光致抗蚀剂浮雕图像的方法，所述方法包括：

a)在基材上施用权利要求1到7中任一项的光致抗蚀剂组合物的涂层；以及b)使该光致抗蚀剂组合物层曝光于活化辐射并且使曝光的光致抗蚀剂组合物涂层显影。

9.权利要求8的方法，其中光致抗蚀剂组合物层曝光于EUV或e-电子束辐射。

10.如权利要求1-7中任一项所述的生酸剂化合物。