[发明专利]透明导电膜及其制作方法和光学调整层有效
| 申请号： | 201310638973.3 | 申请日： | 2013-12-04 |
| 公开（公告）号： | CN103632755A | 公开（公告）日： | 2014-03-12 |
| 发明（设计）人： | 杜成城;刘比尔 | 申请（专利权）人： | 汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司 |
| 主分类号： | H01B5/14 | 分类号： | H01B5/14;H01B13/00;G06F3/041 |
| 代理公司： | 广州市深研专利事务所 44229 | 代理人： | 张喜安 |
| 地址： | 515078 广东省汕头市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 透明 导电 及其 制作方法 光学 调整 | ||
1.一种光学调整层，其特征在于：所述光学调整层的400纳米波长下的折射率为1.55~1.85之间，厚度为500纳米~10000纳米之间，铅笔硬度达1H以上。
2.根据权利要求1所述的光学调整层，其特征在于：所述光学调整层的材料由金属氧化物微粒子和紫外线硬化树脂构成。
3.根据权利要求2所述的光学调整层，其特征在于：所述金属氧化物微粒子为氧化钛或氧化锆。
4.根据权利要求2所述的光学调整层，其特征在于：所述硬化树脂的材料为丙烯酸系树酯、聚矽氧树酯、氨基甲酸酯树酯、醇酸树酯、密胺树酯之一。
5.根据权利要求4所述的光学调整层，其特征在于：所述硬化树脂的材料优选单官能甲基丙烯酸酯或多官能甲基丙烯酸酯。
6.根据权利要求1所述的光学调整层，其特征在于：所述光学调整层的折射率优选为1.6~1.8之间。
7.根据权利要求1所述的光学调整层，其特征在于：所述光学调整层的厚度优选为700纳米~5000纳米之间。
8.一种透明导电膜，其特征在于：其包括依次叠设的基材层、光学调整层、低折射率层和导电层，所述光学调整层为权利要求1-7中任意一项所述的光学调整层。
9.根据权利要求8所述的透明导电膜，其特征在于：所述基材层为PET基材层；所述导电层为 ITO导电层。
10.根据权利要求8所述的透明导电膜，其特征在于：所述低折射率层的400纳米波长的折射率为1.4~1.55之间，且厚度为10纳米~40纳米。
11.根据权利要求8所述的透明导电膜，其特征在于：所述低折射率层的材料为二氧化硅。
12.根据权利要求9或10所述的透明导电膜，其特征在于：所述导电层的厚度为15纳米~35纳米之间。
13.根据权利要求8所述的透明导电膜，其特征在于：所述透明导电膜还包括硬涂层，所述硬涂层设置在所述基材层的与所述光学调整层相对的一侧。
14.根据权利要求8所述的透明导电膜，其特征在于：所述透明导电膜还包括设置在所述基材层的与所述光学调整层相对的一侧依次设置另一光学调整层、另一低折射率层和另一导电层。
15.一种透明导电膜的制作方法，其包括：
提供基材层；
于基材层上以湿式制程涂布一层光学调整层，所述光学调整层包括金属氧化物微粒子和硬化树脂，其400纳米波长的折射率为1.55~1.85之间，厚度为500纳米~10000纳米之间，铅笔硬度达1H以上；
于所述光学调整层设以干式制程或湿式制程设置一层低折射率层；
于所述低折射率层上设置一层导电层。
16.根据权利要求15所述的制作方法，其特征在于：所述透明导电膜的制作方法还包括在所述基材层的与所述光学调整层相对的一侧涂布一层硬涂层。
17.根据权利要求15所述的制作方法，其特征在于：所述透明导电膜的制作方法还包括在所述基材层的与所述光学调整层相对的一侧依次设置另一光学调整层、另一低折射率层和另一导电层。
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