[发明专利]一种调控陶瓷电介质微观结构及介电性能的方法有效

专利信息
申请号: 201310643754.4 申请日: 2013-12-03
公开(公告)号: CN103601488A 公开(公告)日: 2014-02-26
发明(设计)人: 冯毅龙;刘勇;杨俊锋;江涛;庄彤;庄严 申请(专利权)人: 广州天极电子科技有限公司
主分类号: C04B35/47 分类号: C04B35/47;C04B35/50;C04B35/622;C04B41/85
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 510288 广东省广州市海珠区大干*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 调控 陶瓷 电介质 微观 结构 性能 方法
【权利要求书】:

1.一种调控陶瓷电介质微观结构和介电性能的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:

步骤一:在由SrTiO3、BaTiO3、CaTiO3、PbTiO3、TiO2等物质中的一种或若干种构成的陶瓷粉体A中加入由Nb2O5、Ta2O5、V2O5、Y2O3、La2O3、WO3、Bi2O3、Mn2O5等物质中的一种或若干种构成的陶瓷粉体B,所述陶瓷粉体B的质量与所述陶瓷粉体A的质量比大于0小于等于0.30;

步骤二:所述陶瓷粉体A与所述陶瓷粉体B混合,并进行超细磨制得均匀的陶瓷粉体C;

步骤三:所述陶瓷粉体C经干燥后过筛,在过筛得到的粉体中加入PVA或PVC,经流延、干压或挤膜等成型工艺得到陶瓷生坯;

步骤四:所述陶瓷生坯排胶后在NH3气体中或N2和H2组成的混合气体中在1100~1500℃的温度范围内进行烧结,形成陶瓷介质D;

步骤五:在所述陶瓷介质D的表面被覆一层氧化剂层得到陶瓷介质E, 所述氧化剂层由SiO2、B2O3、ZnO、Al2O3、Bi2O3、CuO、CaO、Pb3O4、La2O3、MoO3等一种或若干种物质组成;

步骤六:将所述陶瓷介质E放置在热等静压烧结炉内,调整炉内的烧结气压参数和温度参数进行烧结,气压范围为0.2~10MPa,温度范围为600℃~1500℃,经过所述热等静压处理后得到陶瓷介质F。

2.如权利要求1所述的调控陶瓷电介质微观结构和介电性能的方法,其特征在于:所述陶瓷粉体A为SrTiO3陶瓷粉体,所述陶瓷粉体B为Nb2O5、Ta2O5和La2O3三种物质组成的陶瓷粉体,三种物质分别按0.82%wt、0.64%wt和0.27%wt加入所述陶瓷粉体A中。

3.如权利要求2所述的调控陶瓷电介质微观结构和介电性能的方法,其特征在于:所述陶瓷生坯排胶后在N2和H2组成的混合气体中在1400oC进行烧结。

4.如权利要求2所述的调控陶瓷电介质微观结构和介电性能的方法,其特征在于:所述氧化剂层由SiO2、B2O3和ZnO按35%wt、28%wt和37%wt组成。

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