[发明专利]一种墙体形状变化检测方法、系统及其建筑物有效
申请号: | 201310643785.X | 申请日: | 2013-12-03 |
公开(公告)号: | CN103604386B | 公开(公告)日: | 2017-01-25 |
发明(设计)人: | 邬志刚;燕晋春 | 申请(专利权)人: | 中安消技术有限公司 |
主分类号: | G01B11/16 | 分类号: | G01B11/16 |
代理公司: | 广东广和律师事务所44298 | 代理人: | 章小燕 |
地址: | 100086 北京市海淀区科学院*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 墙体 形状 变化 检测 方法 系统 及其 建筑物 | ||
1.一种墙体形状变化检测方法,其特征在于,包括:
在待监测建筑主体结构上部署至少两个传感器元件以及与所述传感器元件通过光纤连接的光纤拉力调节装置,形成测试点;
根据待监测建筑构建建筑体模型,所述测试点通过光纤服务器与构建的建筑体模型连接;
根据所述光纤服务器分析所部署的传感器元件上的属性变化获得相应的光变量数据,计算出待监测建筑主体结构上各测试点的张力强度;以及
分析所计算的各测试点的张力强度的变化,根据分析结果在所述建筑体模型上描绘出相应墙体形状的变化。
2.根据权利要求1所述的墙体形状变化检测方法,其特征在于,还包括:
当检测到所部署的光纤传感器元件超过测试范围时,调整与该光纤传感器元件连接的光纤拉力调节装置对光纤进行拉线/放线操作;以及
把超过测试范围的光纤传感器上所传送的参数进行减/加调整。
3.根据权利要求1或2所述的墙体形状变化检测方法,其特征在于,所述在待监测建筑主体结构上部署至少两个传感器元件以及与所述传感器元件通过光纤连接的光纤拉力调节装置,形成测试点具体包括将至少两个传感器元件以及与所述传感器元件通过光纤连接的光纤拉力调节装置紧贴在待监测建筑主体结构非受力的墙面,封闭固定。
4.根据权利要求3所述的墙体形状变化检测方法,其特征在于,所述待监测建筑主体结构为单面墙或至少两面墙;
当待监测建筑主体是单面墙时,各传感器元件、光纤拉力调节装置串行连接,呈“S”状的蛇形部署在所述单面墙上,“S”状的每一个拐角处均作为过渡区域,其上仅部署相应的光纤拉力调节装置进行过渡;
当待监测建筑主体是至少两面墙时,且两面墙的相交部分墙体,交叉的部位墙体面角度过大时,所述相交部分墙体或角度过大的交叉的部位墙体作为过渡墙面,其上仅部署相应的光纤拉力调节装置进行过渡。
5.根据权利要求1或2所述的墙体形状变化检测方法,其特征在于,根据待监测建筑构建建筑体模型,所述测试点通过光纤服务器与构建的建筑体模型连接具体包括所述建筑体模型与所述光纤服务器通过网络连接,所述光纤服务器与所部署的光纤传感器元件和光纤拉力装置通过光纤连接。
6.根据权利要求1或2所述的墙体形状变化检测方法,其特征在于,所述根据所述光纤服务器分析所部署的传感器元件上的属性变化获得相应的光变量数据,计算待监测建筑主体结构上各测试点的张力强度具体包括:
对所部署的传感器元件通过光纤传回来的光感波参数进行分析,获得对应的光变量数据;
根据所获得的光变量数据推导出波长变化;以及
根据轴向向应变灵敏度公式和所推导出的波长变化计算出各测试点的张力强度。
7.一种墙体形状变化检测系统,其特征在于,包括:
部署模块,用于在待监测建筑主体结构上部署至少两个传感器元件以及与所述传感器元件通过光纤连接的光纤拉力调节装置,形成测试点;
模型构建模块,用于根据待监测建筑构建建筑体模型,所述测试点通过光纤服务器与构建的建筑体模型连接;
计算模块,用于根据所述光纤服务器分析所部署的传感器元件上的属性变化获得相应的光变量数据,计算出待监测建筑主体结构上各测试点的张力强度;以及
分析模块,用于分析各测试点的张力强度的变化,根据分析结果在所述建筑体模型上描绘出相应墙体形状的变化。
8.根据权利要求7所述的墙体形状变化检测系统,其特征在于,还包括:
光纤调整模块,用于当检测到所部署的光纤传感器元件超过测试范围时,调整与该光纤传感器元件连接的光纤拉力调节装置对光纤进行拉线/放线操作;以及
参数调整模块,用于把超过测试范围的光纤传感器上所传送的参数进行减/加调整。
9.根据权利要求7或8所述的墙体形状变化检测系统,其特征在于,所述计算模块包括:
光感波参数分析单元,用于对所部署的传感器元件通过光纤传回来的光感波参数进行分析,获得对应的光变量数据;
波长变化推导单元,用于根据所获得的光变量数据推导出波长变化;以及
张力计算单元,用于根据轴向向应变灵敏度公式和所推导出的波长变化计算出各测试点的张力强度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中安消技术有限公司,未经中安消技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310643785.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。