[发明专利]一种纵横复合型真空灭弧室触头结构

权利要求书

1.一种纵横复合型真空灭弧室触头结构，其特征在于：包括结构相同，且均设置于灭弧室中的阳极触头系统和阴极触头系统；其中，阳极触头系统和阴极触头系统中均包括设置在阳极一侧或阴极一侧的主导电杆（1），主导电杆（1）的末端均安装有杯座（2），杯座（2）上均设置有圆柱状结构的横磁导电系统以及圆环状结构的纵磁导电系统，横磁导电系统均套设在纵磁导电系统的圆环内；横磁导电系统与纵磁导电系统的电路特征为并联结构。

2.根据权利要求1所述的纵横复合型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述的纵磁导电系统包括由不锈钢制成的圆环状结构的纵磁杯体（3），纵磁杯体（3）安装在杯座（2）上，纵磁杯体（3）的末端安装有环状的纵磁触头盘（6），纵磁杯体（3）与纵磁触头盘（6）的电路特征为串联结构。

3.根据权利要求2所述的纵横复合型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述的纵磁杯体（3）上开设有能够使纵磁杯体（3）产生纵向磁场及弹性形变的螺旋槽，螺旋槽的个数为6～15个。

4.根据权利要求3所述的纵横复合型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述的螺旋槽与水平线的夹角为15°～27°。

5.根据权利要求3或4所述的纵横复合型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述的纵磁触头盘（6）上开设有若干条用于减小纵磁触头盘（6）上涡流的直线槽（8），且直线槽（8）的个数与纵磁杯体（3）上螺旋槽的个数相同；直线槽（8）均匀分布在纵磁触头盘（6）上。

6.根据权利要求2或3所述的纵横复合型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述的横磁导电系统包括套设在纵磁杯体（3）内，并固定在杯座（2）上的横磁导电杆（4），横磁导电杆（4）的末端安装有横磁触头盘（5）；横磁导电杆（4）与横磁触头盘（5）的电路特征为串联结构。

7.根据权利要求6所述的纵横复合型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述的主导电杆（1）、杯座（2）、横磁导电杆（4）均由铜制成；横磁触头盘（5）与纵磁触头盘（6）均由铜铬合金制成。

8.根据权利要求6所述的纵横复合型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述的横磁触头盘（5）与纵磁触头盘（6）同轴线布置；横磁触头盘（5）的外径小于纵磁触头盘（6）的内径，横磁触头盘（5）与纵磁触头盘（6）之间留有缝隙；纵磁触头盘（6）的外径与纵磁杯体（3）的外径相同。

9.根据权利要求7所述的纵横复合型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述的横磁触头盘（5）上开有用于产生横向磁场的折线槽（7）。

10.根据权利要求9所述的纵横复合型真空灭弧室触头结构，其特征在于：所述折线槽（7）的形状为卐字型。