[发明专利]八角莲栽培基质及其制备方法

权利要求书

1.八角莲栽培基质，其特征在于是由以下质量比的原料制得：壤土︰中位泥炭︰风化沙︰珍珠岩︰木屑︰蛭石＝55～80︰2～7︰20～40︰1～6︰3～11︰3～15。

2.根据权利要求1所述八角莲栽培基质，其特征在于是由以下质量比的原料制得：壤土︰中位泥炭︰风化沙︰珍珠岩︰木屑︰蛭石＝60～75︰3～6︰25～35︰2～4︰4～7︰4～10。

3.根据权利要求1所述八角莲栽培基质，其特征在于是由以下质量比的原料制得：壤土︰中位泥炭︰风化沙︰珍珠岩︰木屑︰蛭石＝65︰5︰30︰3︰5︰5。

4.根据权利要求1至3中任一项所述八角莲栽培基质，其特征在于：原料粒度均小于4mm。

5.根据权利要求1至4中任一项所述八角莲栽培基质的制备方法，其特征在于：按质量比将原料壤土、中位泥炭、风化沙、珍珠岩、木屑和蛭石混合均匀，装入敞口大箱，通过日光照射和人工加温及紫外灯照射，使敞口大箱周围空气温度达到60℃～70℃，保持一段时间以杀灭病原菌和虫卵，然后降温风干、装袋制得成品。

6.根据权利要求5所述的八角莲栽培基质的制备方法，其特征在于：原料在敞口大箱中的厚度为30～50厘米。