[发明专利]一种抗电磁波防刮花保护膜及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种保护膜，具体涉及一种用于数码相机、手机屏幕、电脑屏幕等显示屏抗电磁波防刮花保护，减少静电力的保护膜的制备工艺。本发明所涉及的保护膜工艺简单，可实现工业化。

背景技术

随着电子产品科技的快速发展，使更多的人拥有了电子产品，保护膜能起到美容电子产品，延长电子产品寿命的作用。因此，更多的电子产品拥有者愿意使用保护膜。

随着人类生活节奏的加快，人们越来越离不开电子产品。电子产品产生的电磁波直接危害着人们的健康。人体长期处于电磁波下会受到一定的伤害，容易造成人体免疫力下降、新陈代谢紊乱、记忆力减退、提前衰老等伤害，甚至导致各类癌症等。

目前市场上的保护膜，抗刮花性差，容易被手指、钥匙、挂件等硬件刮花刮伤，且静电力强，屏幕经常需要擦拭清洁。

鉴于以上存在的问题，本发明所涉及的抗电磁波防刮花保护膜除具有传统保护膜所具有的安装简单方便、排气速度快、不留残胶的特点外，因引入的纳米材料层能吸收电磁波，使涉及到的保护膜具有抗电磁波的功能，并兼有减少静电力的作用；防刮花层的引入使其具有防乱花的作用，抗刮花能力可以达到2H以上，能有效预防手指、钥匙、挂件等硬件刮花刮伤。可应用于数码相机、手机屏幕、电脑屏幕等显示屏保护并能避免电磁波对人正面辐射。本发明所涉及的保护膜工艺简单，可实现工业化。

发明内容

本发明针对以上的问题，在传统保护膜的基础上引入纳米材料层和防刮花层，因引入的纳米材料层能吸收电磁波，使涉及到的保护膜具有抗电磁波的功能，并兼有减少静电力的作用；防刮花层的引入使其具有防乱花的作用，抗刮花能力可以达到2H以上，能有效预防手指、钥匙、挂件等硬件刮花刮伤。

为达到上述目的，本发明采用以下方案：

一种抗电磁波防刮花保护膜，包含有：护膜层、A胶层、防刮花层、纳米材料层、主膜层、B胶层和剥离层共7层，在基体层的剥离层上表面设有B胶层，B胶层上设有主膜层，主膜层上引入纳米材料层，纳米材料层上引入防刮花层，防刮花层上设有A胶层，A胶层上设有护膜层，纳米吸波层和防刮花层为本发明的技术突出之处；纳米吸波层采用纳米吸波材料，纳米吸波材料是羟基Fe、Co、Ni金属或其合金粉体的一种或多种，与介质型纳米粉体、纳米管的一种或多种混合后，分散于聚氨酯类树脂、有机硅类树脂或丙烯酸类树脂的一种或多种中。

在其中一些实施例中，所述护膜层下表面涂布着A胶层；在主膜层的一面涂布纳米材料层和防刮花层，A胶层与防刮花层贴合；主膜层的另一面涂布B胶层，剥离层与B胶层贴合。

在其中一些实施例中，所述各层厚度是：护膜层为50μm～100μm，A胶层为3μm～20μm，防刮花层为2μm～8μm，纳米材料层为2μm～8μm，主膜层为50μm～200μm，B胶层为3μm～20μm，剥离层为50μm～100μm。

在其中一些实施例中，所述护膜层、主膜层和剥离层采用聚苯二甲酸乙二醇酯（PET）或聚乙烯（PE）材质的一种或二种；A胶层和B胶层采用溶剂型橡胶粘着剂、溶剂型丙烯酸粘着剂、水性丙烯酸粘着剂以及硅酮粘着剂的一种或多种；防刮花层采用聚氨酯类树脂、有机硅类树脂或丙烯酸类树脂的一种或多种。

在其中一些实施例中，所述剥离层和护膜层基材的透光率达到86％以上，雾度小于3%；主膜层基材的透光率达到90%以上，雾度小于1%，基材厚度均匀；A胶层、防刮花层、纳米材料层、B胶层均采用涂布的方法附固于基材上。

一种制备抗电磁波防刮花保护膜的方法，其制备方法如下：

①、将羟基Fe、Co、Ni金属或其合金粉体的一种或多种，与介质型纳米粉体、纳米管的一种或多种混合后，分散于聚氨酯类树脂、有机硅类树脂或丙烯酸类树脂的一种或多种中，得到纳米材料层胶水；

②、在50μm～100μm的护膜层上涂布一层3μm～20μm的A胶层；

③、在经电晕处理的主膜层的一面涂布步骤①得到的纳米材料层胶水，得到一层2μm～8μm的纳米材料层，再在固化的纳米材料层上再涂布一层2μm～8μm的防刮花层，固化后，在主膜层的另一面涂布一层3μm～20μm的B胶层；

④、厚度为50μm～100μm的剥离层与B胶层贴合，使用前起到保护B胶层的作用；A胶层与防刮花层贴合，使用前起保护防乱花层和纳米材料层的作用；

即可制备得到抗电磁波防刮花保护膜成品。