[发明专利]利用不良样本的缺陷地图判定问题设备的方法及其装置

权利要求书

1.一种问题设备判定方法，其特征在于，包含：

生成样本缺陷地图的步骤，该样本缺陷地图表示作为划分为多个单元的产品的集合的不良样本的各个单元的缺陷分布；

对于所述不良样本中的各产品所通过的设备中的至少一个设备生成设备缺陷地图的步骤，针对特定设备的所述设备缺陷地图表示所述不良样本中的产品中通过了所述特定设备的产品的各个单元的缺陷分布；

针对生成了所述设备缺陷地图的各个设备，计算所述样本缺陷地图和所述设备缺陷地图之间的地图相似度的步骤；

以针对各设备的所述地图相似度为基础，判定相对于所述不良样本的问题设备的步骤。

2.根据权利要求1所述的问题设备判定方法，其特征在于，生成所述设备缺陷地图的步骤包含：

对所述不良样本中的各产品所通过的各个设备计算不良率的步骤；

仅限于对所述不良率超过预先指定的基准值的设备生成所述设备缺陷地图的步骤，

对于特定设备的所述不良率为通过所述特定设备的所述不良样本中产品的不良单元个数相对于整个所述不良样本的不良单元个数之比。

3.根据权利要求1所述的问题设备判定方法，其特征在于，对于生成了所述设备缺陷地图的各个设备计算所述地图相似度的步骤包含：

对于生成了所述设备缺陷地图的各个设备计算所述产品的各单元位置的单元相似度的步骤，所述单元相似度是针对相同位置的单元的所述样本缺陷地图的不良单元个数和所述设备缺陷地图的不良单元个数之间的比率；

针对生成了所述设备缺陷地图的各个设备，计算至少一部分单元位置的单元相似度之平均作为地图相似度的步骤。

4.根据权利要求3所述的问题设备判定方法，其特征在于，计算所述至少一部分单元位置的单元相似度之平均作为地图相似度的步骤包含针对生成了所述设备缺陷地图的各个设备计算以不良单元个数为基准而选定的关注单元位置的单元相似度之平均作为地图相似度的步骤。

5.根据权利要求4所述的问题设备判定方法，其特征在于，针对生成了所述设备缺陷地图的各个设备计算以不良单元个数为基准选定的一部分单元位置的单元相似度之平均作为地图相似度的步骤，包含：

在所述不良样本的各个产品的整个单元中，按照不良单元的个数由多变少的顺序选定预先指定个数的单元的步骤；

将单元的不良单元个数的顺序作为X轴、将不良判定个数作为Y轴而计算所述选定的多个单元的线性回归方程式的步骤；

计算所述选定的多个单元的实际不良单元个数和根据所述线性回归方程式计算的预测不良单元个数之间的差值，计算所述多个差值的标准偏差的步骤；

通过在所述线性回归方程式中加或减所述标准偏差的已被指定的倍数，从而计算变形回归方程式的步骤；

在除了所述选定的单元以外的单元中，利用所述变形回归方程式选定高不良基准单元的步骤；

将不良单元个数相比于所述高不良基准单元的不良单元个数相同或更多的单元位置选定为所述关注单元位置的步骤。

6.根据权利要求4所述的问题设备判定方法，其特征在于，针对生成了所述设备缺陷地图的各个设备计算以不良单元个数为基准选定的一部分单元位置的单元相似度之平均作为所述地图相似度的步骤，包含：

在所述不良样本的各个产品的整个单元中，按照不良判定个数由多变少的顺序选定中间的预先指定个数的单元的步骤；

将单元的不良单元个数的顺序作为X轴、将不良判定个数作为Y轴，计算所述选定的多个单元的线性回归方程式的步骤；

计算所述选定的多个单元的实际不良单元个数和根据所述线性回归方程式计算的预测不良单元个数之间的差值，计算所述多个差值的标准偏差的步骤；

通过在所述线性回归方程式中加上所述标准偏差的已被指定的倍数，计算第一变形回归方程式的步骤；

通过从所述线性回归方程式中减去所述标准偏差的预先指定的倍数，计算第二变形回归方程式的步骤；

在除了所述选定的单元以外的单元中，利用所述第一变形回归方程式选定低不良第二基准单元的步骤；

在除了所述选定的单元以外的单元中，利用所述第二变形回归方程式选定低不良第一基准单元的步骤；

将具有所述低不良第一基准单元的不良单元个数与所述低不良第二基准单元的不良单元个数之间的不良单元个数的单元位置均选定为所述关注单元位置的步骤。