[发明专利]一种薄膜生长的实时测温方法有效

专利信息
申请号: 201310655561.0 申请日: 2013-12-06
公开(公告)号: CN104697637B 公开(公告)日: 2018-12-07
发明(设计)人: 马铁中;严冬;王林梓;刘健鹏;焦宏达 申请(专利权)人: 北京智朗芯光科技有限公司
主分类号: G01J5/00 分类号: G01J5/00
代理公司: 北京华沛德权律师事务所 11302 代理人: 刘杰
地址: 102206 北京市昌平*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 薄膜 生长 实时 测温 方法
【权利要求书】:

1.一种薄膜生长的实时测温方法,其特征在于,包括以下步骤:

测量不同温度下,黑体炉的响应光谱P(λ,T);

根据

计算第一种波长λ1和第二种波长λ2分别对应的理论热辐射功率比值r0(T);

其中,

P01,T),第一种波长λ1对应的热辐射功率,

λ1,第一种波长,

Δλ1,第一种波长λ1对应的带宽,

f1(λ),光学探测器在第一种波长λ1下的响应函数,

g1(λ),第一种波长λ1对应的辐射光在光学器件的透过率,

P(λ,T),黑体炉的响应光谱,

τ(T),光谱传输曲线的表达式,

P02,T),第二种波长λ2对应的热辐射功率,

λ2,第二种波长,

Δλ2,第二种波长λ2对应的带宽,

f2(λ),光学探测器在第二种波长λ2下的响应函数,

g2(λ),第二种波长λ2对应的辐射光在光学器件的透过率,

T,温度,

r0(T),第一种波长λ1和第二种波长λ2分别对应的理论热辐射功率比值;

根据所述温度和对应的理论热辐射功率比值r0(T),进行最小二乘拟合,得到理论热辐射比值-温度曲线;

测量不同温度下,第一种波长λ1对应的实际热辐射功率,第二种波长λ2对应的实际热辐射功率,并得到实际热辐射比值;

根据实际热辐射比值,在理论热辐射比值-温度曲线上描出与所述实际热辐射比值对应的点;

将所述点对应的温度T的值代入

分别得到m1和m2

其中,

L(λ1,T),第一种波长λ1对应的实际热辐射功率,

L(λ2,T),第二种波长λ2对应的实际热辐射功率,

m1,第一种波长λ1对应的校准系数,

m2,第二种波长λ2对应的校准系数,

f1(λ),光学探测器在第一种波长λ1下的响应函数,

g1(λ),第一种波长λ1对应的辐射光在光学器件的透过率,

f2(λ),光学探测器在第二种波长λ2下的响应函数,

g2(λ),第二种波长λ2对应的辐射光在光学器件的透过率,

ε(λ),外延片表面的发射率,

T,温度;

λ1,第一种波长,

Δλ1,第一种波长λ1对应的带宽,

λ2,第二种波长,

Δλ2,第二种波长λ2对应的带宽,

k,玻尔兹曼常数,k=1.3806×10-23J/K,

h为普照朗克常数,h=6.626×10-34J·s,

c,光在真空中传播速度,c=3×108m/s;

当薄膜生长反应腔处于低温温度区间时,测量第一种波长λ1对应的实际热辐射功率L(λ1,T),根据计算所述薄膜生长反应腔的温度;

当薄膜生长反应腔处于高温温度区间时,测量第二种波长λ2对应的实际热辐射功率L(λ2,T),根据计算所述薄膜生长反应腔的温度;

所述薄膜生长反应腔的温度范围为(Tmin,Tmax)为(400℃,1500℃),所述第一种波长λ1对应高温度区间(Tup,Tmax),所述第二种波长λ2对应低温度区间(Tmin,Tdown),其中,Tmin<Tdown<Tup<Tmax

其中,

L(λ1,T),第一种波长λ1对应的实际热辐射功率,

L(λ2,T),第二种波长λ2对应的实际热辐射功率,

m1,第一种波长λ1对应的校准系数,

m2,第二种波长λ2对应的校准系数,

f1(λ),光学探测器在第一种波长λ1下的响应函数,

g1(λ),第一种波长λ1对应的辐射光在光学器件的透过率,

f2(λ),光学探测器在第二种波长λ2下的响应函数,

g2(λ),第二种波长λ2对应的辐射光在光学器件的透过率,

ε(λ),外延片表面的发射率,

T,温度;

λ1,第一种波长,

Δλ1,第一种波长λ1对应的带宽,

λ2,第二种波长,

Δλ2,第二种波长λ2对应的带宽,

k,玻尔兹曼常数,k=1.3806×10-23J/K,

h为普照朗克常数,h=6.626×10-34J·s,

c,光在真空中传播速度,c=3×108m/s。

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