[发明专利]一种薄膜生长的实时测温方法有效
申请号: | 201310655561.0 | 申请日: | 2013-12-06 |
公开(公告)号: | CN104697637B | 公开(公告)日: | 2018-12-07 |
发明(设计)人: | 马铁中;严冬;王林梓;刘健鹏;焦宏达 | 申请(专利权)人: | 北京智朗芯光科技有限公司 |
主分类号: | G01J5/00 | 分类号: | G01J5/00 |
代理公司: | 北京华沛德权律师事务所 11302 | 代理人: | 刘杰 |
地址: | 102206 北京市昌平*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 薄膜 生长 实时 测温 方法 | ||
1.一种薄膜生长的实时测温方法,其特征在于,包括以下步骤:
测量不同温度下,黑体炉的响应光谱P(λ,T);
根据
计算第一种波长λ1和第二种波长λ2分别对应的理论热辐射功率比值r0(T);
其中,
P0(λ1,T),第一种波长λ1对应的热辐射功率,
λ1,第一种波长,
Δλ1,第一种波长λ1对应的带宽,
f1(λ),光学探测器在第一种波长λ1下的响应函数,
g1(λ),第一种波长λ1对应的辐射光在光学器件的透过率,
P(λ,T),黑体炉的响应光谱,
τ(T),光谱传输曲线的表达式,
P0(λ2,T),第二种波长λ2对应的热辐射功率,
λ2,第二种波长,
Δλ2,第二种波长λ2对应的带宽,
f2(λ),光学探测器在第二种波长λ2下的响应函数,
g2(λ),第二种波长λ2对应的辐射光在光学器件的透过率,
T,温度,
r0(T),第一种波长λ1和第二种波长λ2分别对应的理论热辐射功率比值;
根据所述温度和对应的理论热辐射功率比值r0(T),进行最小二乘拟合,得到理论热辐射比值-温度曲线;
测量不同温度下,第一种波长λ1对应的实际热辐射功率,第二种波长λ2对应的实际热辐射功率,并得到实际热辐射比值;
根据实际热辐射比值,在理论热辐射比值-温度曲线上描出与所述实际热辐射比值对应的点;
将所述点对应的温度T的值代入
分别得到m1和m2;
其中,
L(λ1,T),第一种波长λ1对应的实际热辐射功率,
L(λ2,T),第二种波长λ2对应的实际热辐射功率,
m1,第一种波长λ1对应的校准系数,
m2,第二种波长λ2对应的校准系数,
f1(λ),光学探测器在第一种波长λ1下的响应函数,
g1(λ),第一种波长λ1对应的辐射光在光学器件的透过率,
f2(λ),光学探测器在第二种波长λ2下的响应函数,
g2(λ),第二种波长λ2对应的辐射光在光学器件的透过率,
ε(λ),外延片表面的发射率,
T,温度;
λ1,第一种波长,
Δλ1,第一种波长λ1对应的带宽,
λ2,第二种波长,
Δλ2,第二种波长λ2对应的带宽,
k,玻尔兹曼常数,k=1.3806×10-23J/K,
h为普照朗克常数,h=6.626×10-34J·s,
c,光在真空中传播速度,c=3×108m/s;
当薄膜生长反应腔处于低温温度区间时,测量第一种波长λ1对应的实际热辐射功率L(λ1,T),根据计算所述薄膜生长反应腔的温度;
当薄膜生长反应腔处于高温温度区间时,测量第二种波长λ2对应的实际热辐射功率L(λ2,T),根据计算所述薄膜生长反应腔的温度;
所述薄膜生长反应腔的温度范围为(Tmin,Tmax)为(400℃,1500℃),所述第一种波长λ1对应高温度区间(Tup,Tmax),所述第二种波长λ2对应低温度区间(Tmin,Tdown),其中,Tmin<Tdown<Tup<Tmax;
其中,
L(λ1,T),第一种波长λ1对应的实际热辐射功率,
L(λ2,T),第二种波长λ2对应的实际热辐射功率,
m1,第一种波长λ1对应的校准系数,
m2,第二种波长λ2对应的校准系数,
f1(λ),光学探测器在第一种波长λ1下的响应函数,
g1(λ),第一种波长λ1对应的辐射光在光学器件的透过率,
f2(λ),光学探测器在第二种波长λ2下的响应函数,
g2(λ),第二种波长λ2对应的辐射光在光学器件的透过率,
ε(λ),外延片表面的发射率,
T,温度;
λ1,第一种波长,
Δλ1,第一种波长λ1对应的带宽,
λ2,第二种波长,
Δλ2,第二种波长λ2对应的带宽,
k,玻尔兹曼常数,k=1.3806×10-23J/K,
h为普照朗克常数,h=6.626×10-34J·s,
c,光在真空中传播速度,c=3×108m/s。
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