[发明专利]用于含铜金属的蚀刻剂组合物

权利要求书

1.一种用于含铜金属层的蚀刻剂组合物，包括：过氧化氢；由下式1表示的水溶性化合物；在分子中具有氮原子和羧基的水溶性化合物、或磷酸盐化合物中的至少一者；和水：

[式1]

式中，R₁和R₂分别独立地为氢原子或具有1个至5个碳原子的烷基，R₃为羟基或具有1个至5个碳原子的烷基。

2.根据权利要求1所述的蚀刻剂组合物，其中，所述由式1表示的水溶性化合物选自氨基磺酸、N-甲基氨基磺酸、N-乙基氨基磺酸、N-丙基氨基磺酸、N,N-二甲基氨基磺酸、N,N-乙基甲基氨基磺酸、N,N-甲基丙基氨基磺酸、N,N-二乙基氨基磺酸、N,N-乙基丙基氨基磺酸、N,N-二丙基氨基磺酸、甲烷磺酰胺、乙烷磺酰胺、丙烷磺酰胺、N-甲基甲烷磺酰胺、N-甲基乙烷磺酰胺、N-甲基丙烷磺酰胺、N-乙基甲烷磺酰胺、N-乙基乙烷磺酰胺、N-乙基丙烷磺酰胺、N,N-二甲基甲烷磺酰胺、N,N-二甲基乙烷磺酰胺、N,N-二甲基丙烷磺酰胺、N,N-乙基甲基甲烷磺酰胺、N,N-乙基甲基乙烷磺酰胺、N,N-乙基甲基丙烷磺酰胺、N,N-甲基丙基甲烷磺酰胺、N,N-甲基丙基乙烷磺酰胺、N,N-甲基丙基丙烷磺酰胺、N,N-乙基丙基甲烷磺酰胺、N,N-乙基丙基乙烷磺酰胺、N,N-乙基丙基丙烷磺酰胺、N,N-二乙基甲烷磺酰胺、N,N-二乙基乙烷磺酰胺、N,N-二乙基丙烷磺酰胺、N,N-二丙基甲烷磺酰胺、N,N-二丙基乙烷磺酰胺和N,N-二丙基丙烷磺酰胺中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的蚀刻剂组合物，其中，以所述蚀刻剂组合物的总重量计，所包括的过氧化氢和所述由式1表示的水溶性化合物的量分别为5重量％至25重量％和0.1重量％至10重量％，同时包括余量的水。

4.根据权利要求1所述的蚀刻剂组合物，其中，所述分子中具有氮原子和羧基的水溶性化合物选自丙氨酸、氨基丁酸、谷氨酸、甘氨酸、亚氨基二乙酸、和肌氨酸中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的蚀刻剂组合物，其中，以所述蚀刻剂组合物的总重量计，所包括的在分子中具有氮原子和羧基的水溶性化合物的量为0.1重量％至5重量％。

6.根据权利要求1所述的蚀刻剂组合物，其中，所述磷酸盐化合物选自磷酸钠、磷酸钾和磷酸铵中的至少一种。

7.根据权利要求1所述的蚀刻剂组合物，其中，以所述蚀刻剂组合物的总重量计，所包括的磷酸盐化合物的量为0.1重量％至5重量％。

8.根据权利要求1所述的蚀刻剂组合物，还包括无氮的有机酸。

9.根据权利要求8所述的蚀刻剂组合物，其中，所述无氮的有机酸选自乙酸、丁酸、柠檬酸、甲酸、葡萄糖酸、乙醇酸、丙二酸、戊酸和草酸中的至少一种。

10.根据权利要求8所述的蚀刻剂组合物，其中，以所述蚀刻剂组合物的总重量计，所包括的所述无氮的有机酸的量为0.1重量％至5重量％。

11.根据权利要求1所述的蚀刻剂组合物，还包括水溶性环胺化合物。

12.根据权利要求11所述的蚀刻剂组合物，其中，所述水溶性环胺化合物选自氨基四唑、咪唑、吲哚、嘌呤、吡唑、吡啶、嘧啶、吡咯、吡咯烷和吡咯啉。

13.根据权利要求11所述的蚀刻剂组合物，其中，以所述蚀刻剂组合物的总重量计，所包括的水溶性环胺化合物的量为0.1重量％至5重量％。

14.根据权利要求1所述的蚀刻剂组合物，还包括含氟化合物。

15.根据权利要求14所述的蚀刻剂组合物，其中，所述含氟化合物选自氟化铵、氟化钠、氟化钾、氟化氢铵、氟化氢钠和氟化氢钾中的至少一种。

16.根据权利要求14所述的蚀刻剂组合物，其中，以所述用于含铜金属层的蚀刻剂组合物的总重量计，所包括的含氟化合物的量为0.01重量％至1重量％。

17.根据权利要求1所述的蚀刻剂组合物，其中，所述含铜金属层为铜或铜合金单层、具有钼层和在所述钼层上形成的铜层的铜-钼层、具有钼合金层和在所述钼合金层上形成的铜层的铜-钼合金层、或具有金属氧化物层和在所述金属氧化物层上形成的铜层的铜-金属氧化物层。