[发明专利]一种改造后的硅片清洗机用槽体

说明书

技术领域

本发明创造涉及硅片加工的机械类领域，具体是一种改造后的硅片清洗机用槽体。

背景技术

随着半导体硅片行业竞争的日益加大，增强清洗能力以便于产能的提升成为必然的趋势，SFQ-1508ZT型腐前清洗机清洗能力不能满足实际生产的需要，需要对其进行改进。老式SFQ-1508ZT型腐前清洗机槽体均是采用塑料结构，内部设有超声装置，制造成本高而且针对于晶向为100的硅片，清洗效果能力弱。而且对于一些掺杂剂是硼元素，电阻率小于1的客户，清洗效果基本没有，所以导致这些客户的大量流失，对于抢占市场带来了不小的困难。

发明内容

本发明创造要解决的问题是针对老式的腐前清洗机存在的问题从清洗机的结构和材质上进行改进，公开一种改造后的硅片清洗机用槽体。

为解决上述技术问题，本发明创造采用的技术方案是：一种改造后的硅片清洗机用槽体，槽体1的上沿周向有水平外沿2，水平外沿2上设置有溢流通道4，在水平外沿2的下方，沿槽体壁的外侧周向设置有一圈蓄水槽3，溢流通道4与蓄水槽3连通，蓄水槽3的底部设有排水管道7。

优选地，所述槽体1的水平外沿2的边缘有向上的凸边5。

更优选的，所述凸边5的外边周向有水平外凸边6。

优选地，所述槽体1是不锈钢槽体，槽体内还设置有进水管道和出水管道。

本发明创造具有的优点和积极效果是：改造后的清洗机用槽体相对于老式的清洗机槽体增加了溢流装置，可以保证槽体内清洗液不断地循环更新，进而提高了对于硅片产品的洗涤效果，使得经过洗涤后的硅片产品的合格率相对于现有技术得到很大的提升，除此之外，改造后的清洗机用槽体的外沿呈凹槽状，可以有效的防止清洗液溢流循环时出现外溢的现象。

附图说明

图1是本发明创造的一种使用状态的结构示意图；

图2是图1中A-A截面的结构示意图；

图3是现有的硅片清洗机用槽体的结构示意图；

图4是图3中A-A截面的结构示意图。

具体实施方式

本发明创造公开的是清洗机用的槽结构，相对于现有的只有槽体11和槽体外延12槽结构而言，其特征是本发明创造的槽体1的上沿周向有水平外沿2，水平外沿2上设置有溢流通道4，在水平外沿2的下方槽体壁的外侧周向设置有一圈蓄水槽3，蓄水槽3的底部设有排水管道7。槽体1的上沿的水平外沿的2外边周向有向上的凸边5，向上的凸边5的外边周向有水平外凸边6。本发明创造中的槽体1是不锈钢槽体，槽体内还设置有进水管道和出水管道。且本发明创造中的槽体尤其是对于硅片清洗机中的水洗槽做出的改进。

在洗涤硅片产品时，将硅片按照要求放入盛有清洗剂的清洗机槽体1内进行清洗，在清洗过程中还可以同时开启槽体的进水管道，使槽体内不断有新的清洗剂涌入，上层的使用过的清洗剂便会通过槽体1外延上的溢流通道4进入到蓄水槽3中，并通过蓄水槽3的排水管道7排出，使得槽体1内的清洗剂不断更新，达到更好的清洗效果。

以上对本发明创造的实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本发明创造的较佳实施例，不能被认为用于限定本发明的实施范围。凡依本发明创造范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本专利涵盖范围之内。