[发明专利]长寿花的催花方法有效

专利信息
申请号: 201310659634.3 申请日: 2013-12-05
公开(公告)号: CN103650869A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 杨铁顺;赵亮;柯盛发;刘青;吴建平;闵宇;边佩璐 申请(专利权)人: 天津滨海国际花卉科技园区股份有限公司
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00;A01G7/06
代理公司: 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 代理人: 孙春玲
地址: 300300 *** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 长寿 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于植物栽培技术领域,尤其是涉及一种长寿花的催花方法。

背景技术

长寿花(Kalanchoe blossfeldiana cv tom Thumb)别名寿星花、假川莲、圣诞伽蓝菜、矮生伽蓝菜。属景天科,伽蓝菜属。一种多肉植物,由肥大、光亮的叶片形成的低矮株丛终年翠绿。每一花枝上可多达数十朵花,花期长达4个多月,长寿花之名由此而来。长寿花喜温暖,要求较高的湿度。现有的长寿花的栽培方法是:采用扦插法繁殖,温度控制在20~22℃,湿度控制在85%以上,每一个星期施一次花多多1号1000倍液,栽培基质采用品氏1号和珍珠岩混合比例为8:1(体积比)。常用的长寿花催花技术为在种苗从生长期开始,用花多多10号和花多多1号每两个星期轮替施用一次,这种方法催出的花朵少,并且花朵也较小,观赏不美观,品质不佳。

其中,花多多10号(30-10-10)肥料配方:(以下百分比为重量∕重量百分比)全氮含量为30%(其中硝态氮含量3.31%,铵态氮含量2.06%,尿素态氮含量为24.62%),水溶性磷酐含量为10%,水溶性氧化钾含量为10%,水溶性氧化镁含量为0.05%,硼含量为0.0068%,螯合态铜含量为0.0036%,螯合态铁含量为0.05%,螯合态锰含量为0.024%,螯合态锌含量为0.0022%,钼含量为0.0009%。

花多多1号(20-20-20)肥料配方:(以下百分比为重量∕重量百分比)全氮含量为20%(其中硝态氮含量6.11%,铵态氮含量3.89%,尿素态氮含量为10%),水溶性磷酐含量为20%,水溶性氧化钾含量为20%,水溶性氧化镁含量为0.05%,硼含量为0.0068%,螯合态铜含量为0.0036%,螯合态铁含量为0.05%,螯合态锰含量为0.025%,螯合态锌含量为0.0025%,钼含量为0.0009%。

发明内容

本发明旨在克服现有技术的不足,提供一种长寿花的催花方法,用以增加花朵的形成数量,进而提高观赏价值。

一种长寿花的催花方法,其特征在于,在长寿花生长到一个月以前光照时间长于14小时,长寿花生长到一个月开始进行短日照处理,即光照时间短于14小时,并摘心,用2000ppm的矮壮素的水溶液和B9 3000ppm液,每一星期施用一次。

与现有技术相比,本发明的优点是:对长寿花的生长发育有明显的积极作用,尤其在对长寿花的花朵高度和数量上,提高了长寿花的观赏价值。

具体实施方式

为了理解本发明,下面通过具体的实施例对本发明作进一步说明。

本实验分为发明组和对照组,每组处理500株长寿花种苗,当种苗生长到一月时开始短日照处理(之前光照时间长于14小时),摘心,用2000ppm的矮壮素的水溶液和B93000ppm液,每一星期施用一次。采用品氏1号基质土和珍珠岩混合比例为8:1(体积比),温度控制在20~22℃,湿度控制在85%以上的栽培方法。

实施例一:(发明组):当种苗生长到一月时开始短日照处理(之前光照时间长于14小时),摘心,用2000ppm的矮壮素的水溶液和B93000ppm液,每一星期施用一次。采用品氏1号基质土和珍珠岩混合比例为8:1(体积比),温度控制在20~22℃,湿度控制在85%以上的栽培方法。

(对照组):从种苗开始,不对种苗采取短日照处理,用2000ppm的矮壮素的水溶液和B93000ppm液,每一星期施用一次。

两组均采用上述方法栽培长寿花,经过80天的培养,观测植株,每组处理取平均数后,记录各处理的花朵数量以及花朵的大小。

实施例二:(发明组):当种苗生长到一月时开始短日照处理(之前光照时间长于14小时),摘心,用2000ppm的矮壮素的水溶液和B93000ppm液,每一星期施用一次。

(对照组):从种苗开始,不对种苗采取短日照处理,用2000ppm的矮壮素的水溶液和B93000ppm液,每一星期施用一次。

两组均采用上述方法栽培长寿花,经过80天的培养,观测植株,每组处理取平均数后,记录各处理的花朵数量以及花朵的大小。

经过80天的培养,观测植株,每组处理取平均数后,记录各处理的花朵数量以及花朵的高度,记录结果如下:

本发明不局限于上述最佳实施方式,任何人在本发明的启示下得出的其他任何与本发明相同或相近似的产品,均落在本发明的保护范围之内。

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