[发明专利]液态合金真空熔炼单辊甩带方法及其装置

权利要求书

1.一种液态合金真空熔炼单辊甩带方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：

1）关闭过渡段（8）上的插板阀（7），使真空室（10）和保温室（2）隔为两个独立腔体；原料母合金放置在真空室（10）内的熔炼坩埚（11.2）中，原料母合金在真空状态下熔炼；同时，石墨加热器（3）对保温室（2）内的喷嘴包（4）预热；

2）真空熔炼完毕后，分别向真空室（10）和保温室（2）内通入保护气体；

3）当真空室（10）与保温室（2）中气体压力平衡后，打开过渡段（8）上的插板阀（7），使真空室（10）和保温室（2）连通；结晶辊（1.1）两侧的喷气管道（5）的喷口（5.1）对准喷嘴(4.1)的两侧进行喷保护气体；同时，保温室（2）下降调节喷嘴（4.1）与结晶辊（1.1）之间的间隙至工作位置，结晶辊（1.1）开始高速旋转；

4）熔炼坩埚（11.2）翻转倾倒，使合金溶液经过导流漏斗（9）、插板阀（7）、导流管（6）流入喷嘴包（4）中；合金溶液全部流入喷嘴包（4）后，增加喷嘴包（4）内保护气体的压力，使加压后的合金溶液经喷嘴（4.1）喷到高速旋转的结晶辊（1.1）上，形成厚度为20～40μm的喷带。

2.根据权利要求1所述的液态合金真空熔炼单辊甩带方法，其特征在于：所述插板阀（7）上设置有保护气体进出口，使得从保护气体进出口充入的保护气体进入保温室（2）内。

3.根据权利要求1或2所述的液态合金真空熔炼单辊甩带方法，其特征在于：所述真空室（10）通入保护气体的压力为0.15～0.25MPa。

4.根据权利要求1或2所述的液态合金真空熔炼单辊甩带方法，其特征在于：所述保温室（2）通入保护气体的压力为0.15～0.25MPa。

5.根据权利要求1或2所述的液态合金真空熔炼单辊甩带方法，其特征在于：所述喷嘴包（4）内保护气体增压后的压力≤0.4MPa。

6.根据权利要求1或2所述的液态合金真空熔炼单辊甩带方法，其特征在于：所述喷气管道（5）向喷嘴（4.1）两侧喷的保护气体的压力小于喷嘴包（4）内增压后的压力。

7.根据权利要求1或2所述的液态合金真空熔炼单辊甩带方法，其特征在于：所述保护气体为氩气或氮气。

8.一种为实现权利要求1所述方法而设计的液态合金真空熔炼单辊甩带装置，包括带有熔炼装置（11）的真空室（10）、通过过渡段（8）与所述真空室（10）连通的保温室（2）、以及设置在所述保温室（2）下方的结晶辊装置（1）；所述保温室（2）内设置有喷嘴包（4）及设置在喷嘴包（4）上方的导流管（6），所述喷嘴包（4）的外周缘设置有石墨加热器（3），所述喷嘴包（4）的下端连接有喷嘴（4.1）；所述真空室（10）内的导流漏斗（9）末端与所述过渡段（8）上部连通，所述导流管（6）的上端与所述过渡段（8）下部连通；其特征在于：

还包括设置在所述过渡段（8）中部的插板阀（7），所述插板阀（7）在关闭状态下将真空室（10）和保温室（2）隔开；所述插板阀（7）上设置有保护气体进出口，使得从保护气体进出口充入的保护气体进入保温室（2）内；所述结晶辊装置（1）的结晶辊（1.1）两侧分别设置有喷气管道（5），所述喷气管道（5）的喷口（5.1）对准喷嘴（4.1）两侧。

9.根据权利要求8所述的液态合金真空熔炼单辊甩带装置，其特征在于：所述熔炼装置（11）包括固定在所述真空室（10）内的支架（11.1）及设置在所述支架（11.1）上的熔炼坩埚（11.2），所述导流漏斗（9）设置在所述熔炼坩埚（11.2）的下方。