[发明专利]一种银溅射靶靶坯的制造方法

权利要求书

1.一种银溅射靶靶坯的制造方法，其特征在于，该方法包括以下步骤： 

1）对银铸锭进行空间三方向常温锻造，然后冷却，要求：每个方向变形量均不小于45%，各变形方向变形量保持一致，锻造过程温度不能高于250℃； 

2）对锻造冷却后的银锭，直接进行轧制变形，形成银靶坯； 

3）对轧制后的靶坯进行热处理，热处理温度为280～400℃，保温时间为1～3h，然后空冷。 

2.根据权利要求书1所述的制造方法，其特征在于，所述银铸锭的材料纯度至少为4N（99.99%）。 

3.根据权利要求书1所述的制造方法，其特征在于，所述锻造为自由锻或模锻。 

4.根据权利要求书1所述的的制造方法，其特征在于，锻造后冷却的方式：采用水冷，冷却时间为大于10min；或采用空冷，冷却时间为大于60min。 

5.根据权利要求书1所述的的制造方法，其特征在于，所述轧制，每道次轧制量不小于10%。 

6.根据权利要求书1所述的制造方法，其特征在于，所述的银靶坯经热处理后的得到晶粒细小、分布均匀的微观组织。