[发明专利]一种承载基板和柔性显示器件制作方法有效
申请号: | 201310662795.8 | 申请日: | 2013-12-09 |
公开(公告)号: | CN103700662B | 公开(公告)日: | 2017-02-15 |
发明(设计)人: | 王辉锋 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 | 代理人: | 柴亮,张天舒 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 承载 柔性 显示 器件 制作方法 | ||
1.一种承载基板,用于在所述制造柔性显示器件的过程中承载柔性基板,其特征在于,所述制造柔性显示器件的承载基板包括基板、气体产生层,所述气体产生层位于所述基板上,所述柔性膜位于所述气体产生层上,所述气体产生层的材质能够分解并产生气体。
2.根据权利要求1所述的承载基板,其特征在于,所述气体产生层的材料的带隙能量为2eV~7eV。
3.根据权利要求2所述的承载基板,其特征在于,所述气体产生层的材料包括GaN或AlN,或者所述气体产生层的材料包括GaN与AlN的混合物。
4.根据权利要求3所述的承载基板,其特征在于,所述气体产生层的材料还包括光热转换材料。
5.根据权利要求2所述的承载基板,其特征在于,所述基板的材料的带隙能量大于7eV。
6.根据权利要求5所述的承载基板,其特征在于,所述基板的材料为玻璃或者透明的陶瓷。
7.根据权利要求1至6中任意一项所述的承载基板,其特征在于,所述气体产生层的厚度为10nm~100μm。
8.根据权利要求7所述的承载基板,其特征在于,所述气体产生层的厚度为200nm~500nm。
9.一种柔性显示器件的制作方法,其特征在于,所述柔性显示器件的制作方法包括:
在基板上形成气体产生层,且所述气体产生层的材质能够分解并产生气体;
在所述气体产生层上形成柔性膜;
在所述柔性膜上形成显示器件层;
使所述气体产生层的材质分解并产生气体以将所述柔性膜与所述基板分离。
10.根据权利要求9所述的柔性显示器件的制作方法,其特征在于,所述使所述气体产生层的材质分解并产生气体,包括:用激光照射所述气体产生层,使所述气体产生层在吸收激光能量后分解并产生气体。
11.根据权利要求10所述的柔性显示器件的制作方法,其特征在于,所述用激光照射所述气体产生层,包括:
用激光沿预定轨迹照射所述基板,使激光穿过所述基板后照射所述气体产生层。
12.根据权利要求11所述的柔性显示器件的制作方法,其特征在于,所述用激光沿预定轨迹照射所述基板,使激光穿过所述基板后照射所述气体产生层,包括:
用激光从所述气体产生层的一边至与该一边相对的另一边扫描照射所述基板。
13.根据权利要求11所述的柔性显示器件的制作方法,其特征在于,所述用激光沿预定轨迹照射所述基板,使激光穿过所述基板后照射所述气体产生层,包括:
用激光从所述气体产生层的边缘至所述气体产生层的中心扫描照射所述基板。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201310662795.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种可拆卸加重杆
- 下一篇:一种成衣生产流水线工作站的进站导轨
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的