[发明专利]一种太阳能单晶硅片清洗剂有效
| 申请号： | 201310663959.9 | 申请日： | 2013-12-09 |
| 公开（公告）号： | CN103710179A | 公开（公告）日： | 2014-04-09 |
| 发明（设计）人： | 孙湘辉;邵凡 | 申请（专利权）人： | 长沙艾森设备维护技术有限公司 |
| 主分类号： | C11D10/02 | 分类号： | C11D10/02 |
| 代理公司： | 长沙市融智专利事务所 43114 | 代理人： | 魏娟 |
| 地址： | 410600 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 太阳能 单晶硅 洗剂 | ||
【权利要求书】：
1.一种太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于，每100g清洗剂中包括以下组分：氢氧化钾2～15g，表面活性剂1～5g，渗透剂1～3g，螯合剂1～5g。
2.如权利要求1所述的太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于，每100g清洗剂中包括以下组分：氢氧化钾8～10g，表面活性剂1～3g，渗透剂1g，螯合剂1～3g。
3.如权利要求2所述的太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于，每100g清洗剂中包括以下组分：氢氧化钾9g，表面活性剂2g，渗透剂1g，螯合剂1g。
4.如权利要求3所述的太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于，所述的表面活性剂为烷基葡萄糖苷和/或异构醇聚氧乙烯醚。
5.如权利要求3所述的太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于，所述的渗透剂为异辛醇聚氧乙烯醚。
6.如权利要求3所述的太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于，所述的螯合剂为EDTA·4Na、EDTA·2Na、柠檬酸铵中的一种或几种。
7.如权利要求1～6任一项所述的太阳能单晶硅片清洗剂，其特征在于，所述的清洗剂稀释10～20倍使用。
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