[发明专利]冷阱及冷阱的安装结构

说明书

技术领域

本申请主张基于2012年12月26日申请的日本专利申请第2012-283119号的优先权。其申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。

本发明涉及一种冷阱及冷阱的安装结构。

背景技术

冷阱为通过将气体冻结在表面而进行捕捉来从环境气体中除去的装置。作为冷阱的用途之一，冷阱设置于主真空泵的跟前。水蒸气等平衡蒸汽压力较低的气体被冷阱捕捉，而平衡蒸汽压力较高的其他气体通过主真空泵排出。

专利文献1：美国专利第5483803号说明书

发明内容

本发明的一方式的例示性目的之一在于，提供一种具有较快的排气速度的冷阱及冷阱的安装结构。

根据本发明的一方式，提供一种冷阱，其设置于排气对象容积与用于该容积的真空排气的真空泵之间，其中，该冷阱具备：导管，用于将所述容积与所述真空泵连接；及冷板，被所述导管包围，所述导管在被排气侧具备入口凸缘，在真空泵侧具备出口凸缘，所述出口凸缘在所述导管的延伸方向上与所述入口凸缘隔开间隔而配设，所述入口凸缘的外径大于所述出口凸缘的外径。

根据本发明的一方式提供一种冷阱的安装结构，其中，该冷阱安装结构具备：导管，从被排气侧向真空泵侧延伸；入口凸缘，设置于所述导管的所述被排气侧；及出口凸缘，设置于所述导管的所述真空泵侧，所述入口凸缘的外径大于所述出口凸缘的外径。

另外，任意组合以上构成要件或在方法、装置、系统等之间相互置换本发明的构成要件或表现形式，作为本发明的形态同样有效。

发明效果

根据本发明能够提供一种具有较快的排气速度的冷阱及冷阱的安装结构。

附图说明

图1为示意地表示本发明的一实施方式所涉及的真空排气系统的图。

图2为概略表示本发明的另一实施方式所涉及的冷阱的侧剖视图。

图3为概略表示本发明的另一实施方式所涉及的冷阱的顶视图。

图中：10-冷阱，12-涡轮分子泵，13-排气流路，14-入口开口，15-出口开口，16-真空腔室，18-闸阀，20-冷板，22-制冷机，24-导管，26-入口凸缘，28-出口凸缘，30-中心板，32-外周板，110-冷阱，113-排气流路，114-入口开口，115-出口开口，120-冷板，124-导管，126-入口凸缘，128-出口凸缘，140-凸缘凹部，142-主体板，144-扩展板。

具体实施方式

图1为示意地表示本发明的一实施方式所涉及的真空排气系统的图。该真空排气系统具备冷阱（cold trap）10及用于对排气对象容积（例如真空处理装置的真空腔室16）进行排气的主真空泵（例如涡轮分子泵12）。主真空泵为用于排气至高真空区域的高真空泵。另外，主真空泵也可以是扩散泵。真空排气系统除主真空泵以外还可以具备用于进行真空腔室16的粗抽的辅助泵。

涡轮分子泵12通过排气流路13连接于真空腔室16。冷阱10配置于真空腔室16与涡轮分子泵12之间。冷阱10为所谓内嵌式冷阱。冷阱10例如配置于涡轮分子泵12的铅直方向的上方。

以下，为明确表示构成要件之间的位置关系，有时使用“轴向”、“径向”等术语。轴向表示沿排气流路13的方向（或导管24的延伸方向），径向表示与轴向垂直的方向。为方便起见，有时将轴向上离真空腔室16相对较近的称为“上”，相对较远的称为“下”。即，有时将离涡轮分子泵12相对较远的称为“上”，相对较近的称为“下”。在径向上，有时将离排气流路13的中心较近的称为“内”，离排气流路13的周缘较近的称为“外”。另外，这种表达方式与冷阱10安装于真空腔室16及涡轮分子泵12时的实际配置无关。例如，冷阱10可以以使出口开口15沿铅直方向朝上且使入口开口14沿铅直方向朝下的方式安装于真空腔室16。

排气流路13为用于使气体从真空腔室16流向涡轮分子泵12的空间。因此，排气流路13具有真空腔室16侧的入口开口14与涡轮分子泵12侧的出口开口15。应被排出的气体从真空腔室16通过入口开口14进入到排气流路13，并经由出口开口15流向涡轮分子泵12。

本实施方式中，入口开口14大于出口开口15。从入口侧观察时，入口开口14包含出口开口15。入口开口14为圆形，出口开口15与入口开口14为同心圆。