[发明专利]温室育苗灌溉施肥一体化系统无效
申请号: | 201310667569.9 | 申请日: | 2013-12-11 |
公开(公告)号: | CN103621355A | 公开(公告)日: | 2014-03-12 |
发明(设计)人: | 韩吉书 | 申请(专利权)人: | 济南安信农业科技有限公司 |
主分类号: | A01G9/24 | 分类号: | A01G9/24;A01C23/04 |
代理公司: | 济南诚智商标专利事务所有限公司 37105 | 代理人: | 王汝银 |
地址: | 250105 山*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 温室 育苗 灌溉 施肥 一体化 系统 | ||
1.一种温室育苗灌溉施肥一体化系统,包括供水系统、注肥系统、灌溉管路系统、传感器水肥检测装置、PLC控制系统,注肥系统分别与供水系统、储肥罐连接,供水系统通过主管道与灌溉管路系统连接,所述供水系统包括水泵、与水泵连接的主管道,主管道上设有过滤器,过滤器前部及后部的主管道上分别设有前压力表、后压力表、主管道前电磁阀开关、主管道后电磁阀开关,注肥系统包括混肥罐,混肥罐通过文丘里注肥泵与过滤器前部的主管道连接,混肥罐与文丘里注肥泵之间的管路上设有电磁流量调节器、注肥电磁阀开关,所述PLC控制系统分别与人机对话界面、传感器水肥检测装置、前压力表、后压力表、主管道前电磁阀开关、主管道后电磁阀开关,电磁流量调节器、注肥电磁阀开关连接。
2.如权利要求1所述的温室育苗灌溉施肥一体化系统,其特征是,所述水泵及主管道、PLC控制系统、人机对话界面设于同一个机架上,机架下部设有滚轮。
3.如权利要求1所述的温室育苗灌溉施肥一体化系统,其特征是,所述传感器水肥检测装置包括PH传感器、EC传感器,所述PH传感器、EC传感器设于过滤器后部的管道上,PH传感器、EC传感器与PLC控制系统连接并通过人机对话界面显示其示值。
4.如权利要求1所述的温室育苗灌溉施肥一体化系统,其特征是,所述混肥罐底部设有下液位开关、上部设有上液位开关,下液位开关、上液位开关分别与PLC控制系统连接。
5.如权利要求1所述的温室育苗灌溉施肥一体化系统,其特征是,所述混肥罐与过滤器后部的主管道通过注水电磁阀开关连接,注水电磁阀开关与PLC控制系统连接。
6.如权利要求1所述的温室育苗灌溉施肥一体化系统,其特征是,所述过滤器后部的主管道设有电磁流量计,电磁流量计与PLC控制系统连接。
7.如权利要求1所述的温室育苗灌溉施肥一体化系统,其特征是,所述PLC控制系统包括模拟量采集模块、汉字显示屏模块。
8.如权利要求1所述的温室育苗灌溉施肥一体化系统,其特征是,在主管道的后部设有逆止阀、防止水倒流。
9.如权利要求1所述的温室育苗灌溉施肥一体化系统,其特征是,所述储肥罐采用不透光材料。
10.如权利要求1所述的温室育苗灌溉施肥一体化系统,其特征是,所述混肥罐通过聚已烯软管与储酸罐相接,通过软管与两个储肥罐连接。
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