[发明专利]圆片级聚合物光学微球腔的集成制造方法有效
申请号: | 201310668106.4 | 申请日: | 2013-12-07 |
公开(公告)号: | CN103616739A | 公开(公告)日: | 2014-03-05 |
发明(设计)人: | 唐军;刘俊;薛晨阳;张斌珍;闫树斌;商成龙;段俊萍;张天恩;雷龙海;谢成峰;毛静;李惠琴 | 申请(专利权)人: | 中北大学 |
主分类号: | G02B5/00 | 分类号: | G02B5/00;G03F7/20;G02B6/26 |
代理公司: | 太原科卫专利事务所(普通合伙) 14100 | 代理人: | 朱源 |
地址: | 030051 山*** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 圆片级 聚合物 光学 微球腔 集成 制造 方法 | ||
1.一种圆片级聚合物光学微球腔的集成制造方法,其特征在于:包括如下步骤:
1)SU-8圆柱基底(1)的制备:
a:取透光部分为五个小圆孔(2)的掩膜板(3),五个小圆孔(2)在掩膜板(3)上呈矩形分布,其中四个小圆孔(2)位于矩形的四个角的位置,剩余的一个小圆孔(2)位于矩形的中心位置;
b:取圆形基片(4),进行表面预处理后在180℃的烘盘上烘30分钟,之后再降至室温;
c:在圆形基片(4)的上表面涂一层SU-8负光刻胶,然后放在烘盘上按以下参数进行烘烤:从常温开始升温,每上升5℃停留5分钟,升温至65℃时停留20分钟,然后继续每上升5℃停留5分钟,最后升温至95℃时停留3小时,之后停止加温待其自然冷却;
d:将掩膜板(3)放置于圆形基片(4)上的SU-8负光刻胶层上,使掩膜板(3)上位于中心位置的那个小圆孔(2)与圆形基片(4)的中心重合,然后将掩膜板(3)和圆形基片(4)一同移动到光刻机紫外光灯下紫外曝光50秒,重复进行3次;
e:曝光完成后,取出圆形基片(4)并将其上的掩膜板(3)取下,然后将圆形基片(4)放在盛有显影液的培养皿中,将培养皿再放入到超声清洗设备内,对圆形基片(4)上的SU-8负光刻胶层进行超声显影,直至圆形基片(4)上的SU-8负光刻胶层显影形成五个圆柱状结构;
f:显影完成后,将圆形基片(4)取出并用氮气吹干后放在烘盘上,按以下参数进行坚膜:从常温开始升温,每上升5℃停留5分钟,升温至65℃时停留10分钟,然后继续每上升5℃停留5分钟,最后升温至95℃时停留30分钟,之后停止加温待其自然冷却,至此,圆形基片(4)上的五个圆柱状结构即成为了五个SU-8圆柱基底(1);
2)光学微球腔(6)的制备:
a:将圆形基片(4)及其上的五个SU-8圆柱基底(1)依次在丙酮、异丙醇和去离子水中分别清洗3分钟;
b:取出圆形基片(4),用氮气吹干后放在烘盘上,100℃烘烤10分钟;
c:烘烤完成后,用喷墨印花机将NOA73光学胶垂直地喷射在圆形基片(4)上位于中心位置的那个SU-8圆柱基底(1)的顶部, NOA73光学胶呈微球状分布在SU-8圆柱基底(1)的顶部;
d:将圆形基片(4)移动到光刻机紫外光灯下紫外曝光60s,使得NOA73光学胶固化,得到了固体光学微球腔(6);
3)圆片级聚合物光学微球腔集成结构的制备:
a:圆形基片(4)上位于外围的四个SU-8圆柱基底(1)中,选择同侧的两个SU-8圆柱基底(1)并在其顶部之间垫设一个垫片(7),剩余同侧的两个SU-8圆柱基底(1)顶部之间也垫设一个垫片(7),然后取锥形光纤(8),使锥形光纤(8)的中间部分紧靠在光学微球腔(6)的表面,锥形光纤(8)的两端分别用AB胶(5)固定在两个垫片(7)上,最后就得到了圆片级聚合物光学微球腔的集成结构。
2.根据权利要求1所述的圆片级聚合物光学微球腔的集成制造方法,其特征在于:所述的SU-8负光刻胶采用SU-8 100负光刻胶。
3.根据权利要求1或2所述的圆片级聚合物光学微球腔的集成制造方法,其特征在于:在圆形基片(4)上表面涂SU-8负光刻胶时,用匀胶机以1000转/分的速度转30秒。
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