[发明专利]一种高性能碘化铯闪烁屏的制备方法

权利要求书

1.一种高性能碘化铯闪烁屏的制备方法 ，其特征在于，该制备方法包括如下步骤：a）选备衬底，b）制备闪烁体，c）制备锗金属膜，d）闪烁屏后处理。

2.根据权利要求1所述的高性能碘化铯闪烁屏的制备方法 ，其特征在于，所述的步骤a）中，衬底材料为铝或钛材质的薄板，厚度约为1-1.2mm；衬底使用前先用中性洗剂刷洗，然后用清水冲净，最后使用酒精乙醚擦洗并烘干。

3.根据权利要求1所述的高性能碘化铯闪烁屏的制备方法 ，其特征在于，所述的步骤b）中，闪烁体原料为碘化铯和碘化铊粉料的混合料，两者的百分含量配比约为99.4%：0.6%；制备过程如下：首先，将定量的粉料置于蒸镀舟内，蒸镀舟材质为钼，蒸镀舟与衬底的距离控制在20-30cm；然后，对镀膜室进行抽真空并预热，真空度控制在10                                               -10torr，预热温度控制在220℃-240℃；接着，对镀膜室进行高真空抽气，当真空度达到10torr时，打开蒸镀舟电源，移开挡板进行后通氩气，开始蒸镀操作，蒸镀室温度控制在300℃-350℃；最后，对蒸镀室充气，恢复常压后蒸镀板在蒸镀室内缓冷至室温。

4.根据权利要求1所述的高性能碘化铯闪烁屏的制备方法，其特征在于，所述的步骤c）中，锗金属膜采用离子束磁溅射工艺进行制备，靶材的直径为200mm，厚度为1.2mm，射频溅射电源的功率为13.65MHz；镀膜过程中，磁控室温度控制在300℃-320℃，当真空度达到10torr时通氩气作为保护气体，气压值控制在1-1.2Pa，离子溅射时的入射角为70°，沉积速度控制在10-12A/s。

5.根据权利要求1所述的高性能碘化铯闪烁屏的制备方法 ，其特征在于，所述的步骤d）中，后处理工艺为低温退火处理，退火温度控制在150-180℃，保温时间为1.5-3小时，而后闪烁屏在炉内缓冷至室温。