[发明专利]一种用于薄膜太阳能电池的陷光结构及制作方法

权利要求书

1.一种用于薄膜太阳能电池的陷光结构，其特征在于，包括：微透镜阵列（1），微透镜阵列的基底（2），带有微孔阵列的反射膜层（4）以及反射镜（5），反射膜层（4）上微孔阵列的位置与微透镜阵列（1）焦点的位置一一对应且重合，带微孔阵列的反射膜层（4）与反射镜（5）之间形成一个腔体（6）。

2.根据权利要求1所述的一种用于薄膜太阳能电池的陷光结构，其特征在于，所述微孔阵列的开孔大小应当等于微透镜阵列的焦斑大小，其误差不得大于10%。

3.根据权利要求1所述的一种用于薄膜太阳能电池的陷光结构，其特征在于，所述带有微孔阵列的反射膜层厚度不大于微透镜阵列的焦深。

4.根据权利要求1所述的一种用于薄膜太阳能电池的陷光结构，其特征在于，所述带有微孔阵列的反射膜层和反射镜在太阳光谱范围内具有≧80％的反射率。

5.根据权利要求1所述的一种用于薄膜太阳能电池的陷光结构，其特征在于，所述腔体内可按现有技术制作各类薄膜太阳能电池，包括薄膜硅太阳能电池、化合物薄膜太阳能电池、染料敏化太阳能电池以及有机聚合物太阳能电池。

6.制作上述权利要求1所述的陷光结构的方法，其特征在于：包括以下步骤:

步骤（1）、在透明基底上制作微透镜阵列，使微透镜阵列的焦平面位于透明基底的下表面；

步骤（2）、在微透镜基底下表面涂敷一层负性光刻胶；

步骤（3）、利用紫外曝光机照射微透镜阵列上表面，由于微透镜的聚焦作用，处于微透镜焦点处的负性光刻胶被曝光；

步骤（4）、被曝光后的负性光刻胶经显影后，可在微透镜基底下表面获得与微透镜阵列焦点一一对应的光刻胶阵列；

步骤（5）、在加工有光刻胶阵列的微透镜基底下表面沉积一层反射膜；

步骤（6）、利用剥离工艺将微透镜基底下表面的光刻胶阵列清除，从而获得带有微孔阵列的反射膜层；

步骤（7）、加工一块反射镜，置于带有微孔阵列的反射膜层的下方，使两反射面之间形成一个腔体，即可完成陷光结构的制作。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述步骤（1）中透明基底的厚度应当等于微透镜阵列的焦距，其误差不得大于10％。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述步骤（2）中负性光刻胶的厚度不得大于微透镜阵列的焦深。

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述步骤（5）中反射膜的厚度不得大于微透镜阵列的焦深。